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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116449472B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310262902.1，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法是由晋云霞;韩昱行;孔钒宇;曹红超;邵建达设计研发完成，并于2023-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法在说明书摘要公布了：一种用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法，其特征在于利用光栅镀膜的自遮挡效应和超短脉冲激光辐照的局部熔化，对光栅脊迎光面结构进行调控。包括以下步骤：光栅掩模制备、磁控溅射金膜镀制生成槽底凸起结构、构建光栅槽形和衍射效率与镀膜参数数据集、超短脉冲激光辐照、构建光栅槽形和衍射效率与辐照参数数据集、激光二维平面扫描光栅。本发明的可以精密调控光栅槽底的凸起结构、斜面结构，使原光栅的高衍射效率区向短波处拓展。本发明的方法兼容全息干涉光刻金光栅的全套工艺，产品口径可拓展至米级，在高能激光领域具有重要的经济和实用价值。

本发明授权用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法，其特征在于该方法包括以下步骤： 1按照压缩器对金光栅的光谱、角谱、偏振的需求，利用矢量衍射理论对线密度、占空比、槽深和形状进行优化计算，并利用全息干涉光刻技术制备相应参数的光栅掩模1； 2将步骤1制备的光栅掩模1装载在磁控溅射镀膜机中能在水平方向移动的样品盘上，利用磁控溅射镀膜技术，在固定一组常规工艺参数的条件下，改变镀膜时间t和样品盘移动速度v，将金膜2镀制在所述的光栅掩模上，使光栅条之间由于自遮挡效应逐渐形成纯金的凸起结构3； 3利用原子力显微镜和分光光度计对步骤2制备好的金光栅进行槽形轮廓p和衍射效率η检测，建立t、v、p、η和轮廓之间的数据集Q+[t,v,p,η]； 4在所述的数据集Q+[t,v,p,η]中选择一组参数制备大批量或大口径金光栅样品； 5对步骤4中的样品进行超短脉冲激光辐照，使光栅脊的迎光面发生局部烧蚀；烧蚀区域和槽底凸起结构3进行结合，对原光栅脊和凸起之间的沟槽进行部分或完全填充以形成斜面4，通过控制激光单脉冲能量密度F，重复频率f，脉冲数N对填充程度进行调控； 6利用原子力显微镜和分光光度计对步骤5修形好的金光栅进行槽形轮廓和衍射效率检测，建立金光栅在修形前后F、f、N、p、η之间的数据集Q+[F,N,f,p,η]； 7以衍射效率大于90％为标准，在步骤6中建立的数据集中筛选出比未修形的金光栅衍射效率谱带宽更宽的参数； 8将步骤4中的金光栅装载在二维位移台上，按照挑选出的一组参数进行光栅修形，并对成品进行衍射效率测试验证，如衍射效率性能未达标，则重复步骤5-7，直至达到标准。

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