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龙图腾网获悉之江实验室;浙江大学申请的专利一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法与装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116560059B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310017454.9，技术领域涉及：G02B21/00；该发明授权一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法与装置是由杨臻垚;刘秋兰;张晓依;邱毅伟;匡翠方;刘旭设计研发完成，并于2023-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法与装置在说明书摘要公布了：一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法，通过在光刻胶中掺杂可以闪烁的荧光染料，利用边缘光抑制效应的双光束实现高精度激光直写，以及利用随机光重构显微方法进行超分辨成像。一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的装置包括进行高精度激光直写的两个光源和进行超分辨显微成像的另两个光源；其中，前者两个光源分别为使光刻胶产生光聚合过程的激发光光源和对光刻胶产生抑制聚合的抑制光源；后者两个光源分别为对染料进行活化的激活光和激发荧光染料发荧光的激发光。本发明通过在一个系统中集成激光直写与光学显微成像，进而同时实现超分辨刻写与成像两个功能，实现刻写结构的无损、非侵入直写光学成像，操作简便，节约成本。

本发明授权一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法与装置在权利要求书中公布了：1.一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的装置，包括：用于实现光刻胶边缘光抑制效应的两个光路，所述两个光路包括激发光刻胶产生聚合的激发光路和抑制聚合过程的抑制光路；用于对所刻写微纳结构进行随机光重构成像表征的光路包括荧光染料的激活光路和激发光路；进行荧光接收的探测光路； 所述激发光刻胶产生聚合的激发光路依次包括第一激光器1、第一声光调制器2、第一扩束镜3、第一二分之一波片4； 所述抑制聚合过程的抑制光路依次包括第二激光器5、第二声光调制器6、第二扩束镜7、第一反射镜8、第二二分之一波片9； 光刻胶激发光与抑制光通过偏振合束器10进行合束，合束后的光束依次经过分屏空间光调制器模块11、四分之一波片12、扫描振镜13、扫描透镜14、第一二向色镜15、场镜16、第二二向色镜17、物镜18后到达光刻胶样品22；所述光刻胶样品22放在盖玻片21上，盖玻片21放在样品槽20上，样品槽20放置在高精度样品位移台19上； 所述荧光染料的激活光路依次包括第三激光器25、第三声光调制器26、第二反射镜27、透镜28、第二二向色镜17、物镜18、光刻胶样品22； 所述荧光染料的激发光路依次包括第四激光器29、第四声光调制器30、第三反射镜31、透镜28、第二二向色镜17、物镜18、光刻胶样品22；所述荧光染料的激发光路的光束以全反射角入射到光刻胶样品的表面； 所述探测光路依次包括物镜18、第二二向色镜17、场镜16、第一二向色镜15和相机23； 还包括计算机24，所述计算机与第一声光调制器2、第二声光调制器7、第三声光调制器26、第四声光调制器30、分屏空间光调制器模块11、扫描振镜13、相机23、高精度样品移动平台19进行连接。

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