季华实验室陈蕊获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种光刻机动态大面积调焦调平方式获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116679532B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310567849.6,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种光刻机动态大面积调焦调平方式是由陈蕊;周天林;刘卉;李晓峰;叶鹏程设计研发完成,并于2023-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻机动态大面积调焦调平方式在说明书摘要公布了:本发明公开了一种光刻机动态大面积调焦调平方式,掩膜台承载掩膜版从初始位移动至曝光对准位的过程中,以匀速运动的方式经过第一测量区域,并在第一测量区域完成对掩膜版的全局调焦调平工作,工作台承载工件从上片位移动至曝光位的过程中,以匀速运动的方式经过第二测量区域,并在第二测量区域完成对工件的i个曝光场的调焦调平工作,工件上的i个曝光场逐一进入曝光位进行微调焦调平,使得每个曝光场到达物镜的最佳焦面后再进行曝光。本发明提供的光刻机动态大面积调焦调平方式,实现掩膜版至曝光对准位的过程中进行动态调焦调平工作和工件移动至曝光位的过程中进行动态大面积调焦调平工作,缩短曝光前的整体调焦调平时间,提高了曝光精度。
本发明授权一种光刻机动态大面积调焦调平方式在权利要求书中公布了:1.一种光刻机动态大面积调焦调平方式,其特征在于,包括以下步骤: S1、掩膜台在初始位承载掩膜版,并向第一测量区域开始步进; S2、掩膜台在第一测量区域内匀速通过,动态调焦调平传感器对掩膜版进行全局扫描测量,信号处理器处理上述扫描信息获得掩膜版的面形数据; S3、掩膜台根据掩膜版的面形数据对掩膜版执行全局调焦调平; S4、掩膜台通过第一测量区域后减速运动至曝光对准位; S5、工作台在上片位承载工件,并向第二测量区域开始步进; S6、工作台在第二测量区域内匀速通过,动态大面积调焦调平传感器对工件进行全局扫描测量,信号处理器处理上述扫描信息获得工件的i个曝光场的面形数据,i为大于0的整数; S7、工作台根据工件的i个曝光场的面形数据对各曝光场执行全局调焦调平; S8、工作台通过第二测量区域后减速运动到曝光位,以使工件的第一个曝光场进入曝光位; S9、在掩膜版到达曝光对准位的情况下,调焦调平传感器对第一个曝光场进行扫描测量,信号处理器处理上述扫描信息获得工件的第一个曝光场的面形数据,工作台根据第一个的曝光场的面形数据对该曝光场执行微调焦调平,以使该曝光场到达物镜的最佳焦面进行曝光; S10、工作台承载工件,使得工件的下一个曝光场进入曝光位; S11、调焦调平传感器对下一个曝光场进行扫描测量,信号处理器处理上述扫描信息获得工件的下一个曝光场的面形数据,工作台根据下一个的曝光场的面形数据对该曝光场执行微调焦调平,以使该曝光场到达物镜的最佳焦面进行曝光; S12、重复上述步骤S10和步骤S11,直至工件的i个曝光场全部曝光完成。
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