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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利覆晶薄膜、显示装置及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116761453B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310798861.8，技术领域涉及：H10K50/844；该发明授权覆晶薄膜、显示装置及制备方法是由李国腾;卢鑫泓;董水浪;周靖上;李柳青;杨少鹏;李宝曼;崔钊设计研发完成，并于2023-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本覆晶薄膜、显示装置及制备方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种覆晶薄膜、显示装置及制备方法；所述覆晶薄膜，包括：衬底基板，所述衬底基板上布置有图案化的金属走线；封装层，设置在所述金属走线远离所述衬底基板的一侧，在所述衬底基板上的正投影覆盖所述金属走线在所述衬底基板上的正投影；金属引脚，设置在所述封装层远离所述衬底基板的一侧，并与所述金属走线远离所述衬底基板的一侧固定连接；阻隔层，设置在所述封装层远离所述衬底基板的一侧，并与所述金属引脚连接，被配置为对所述金属引脚和所述封装层之间的间隙进行密封；本申请利用阻隔层能够对封装层与金属引脚间的间隙进行密封，避免金属引脚进行化锡工艺时被酸液腐蚀，防止金属引脚发生表层剥落或脱离，提高覆晶薄膜的弯曲性能。

本发明授权覆晶薄膜、显示装置及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种覆晶薄膜，其特征在于，包括： 衬底基板，所述衬底基板上布置有图案化的金属走线； 封装层，设置在所述金属走线远离所述衬底基板的一侧，在所述衬底基板上的正投影覆盖所述金属走线在所述衬底基板上的正投影； 金属引脚，设置在所述封装层远离所述衬底基板的一侧，并与所述金属走线远离所述衬底基板的一侧固定连接； 阻隔层，设置在所述封装层远离所述衬底基板的一侧，并与所述金属引脚连接； 所述金属引脚包括相连接的第一连接部和第二连接部，所述第一连接部与所述金属走线远离所述衬底基板的一侧固定连接，所述阻隔层在所述衬底基板上的正投影围绕所述第一连接部在所述衬底基板上的正投影；还包括所述第二连接部靠近所述衬底基板一侧设置的第一接触面，所述第二连接部通过所述第一接触面与所述阻隔层远离所述衬底基板的一侧连接，所述阻隔层被配置为对所述金属引脚和所述封装层之间的间隙进行密封，使所述金属引脚在化锡工艺时于所述第二连接部表面形成均匀的金属锡防护层，以阻止化锡工艺应用的酸液腐蚀所述第一连接部表面及其与所述金属走线的连接部位。

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