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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种防伪光学元件及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117218939B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310513337.1，技术领域涉及：G09F3/02；该发明授权一种防伪光学元件及其制备方法是由董延更;胡敬佩;曾爱军;黄惠杰设计研发完成，并于2023-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种防伪光学元件及其制备方法在说明书摘要公布了：一种防伪光学元件及其制备方法，其中，防伪光学元件包括平面基底，其特征在于，还包括位于所述平面基底上的表面光学防伪层；所述表面光学防伪层由周期分布的相位区构成，每个相位区由多个紧密排列的、高度不同、底面为相同正方形的台阶像素块构成，使所述表面光学防伪层在可见光照射下形成防伪图案。本发明防伪光学元件具有加工成本低、防伪能力强、使用范围广泛、防伪图像清晰等优点，可应用于货币、证件、标签等领域。

本发明授权一种防伪光学元件及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种防伪光学元件，包括平面基底，其特征在于，还包括位于所述平面基底上的表面光学防伪层；所述表面光学防伪层由周期分布的相位区构成，每个相位区由多个紧密排列的、高度不同、底面为相同正方形的台阶像素块构成，使所述表面光学防伪层在可见光照射下形成防伪图案； 所述相位区的台阶像素块的高度计算如下： S1.使用随机数生成和像素块数目一致的相位矩阵，得到经过调制的反射面光场矩阵； S2.对反射面光场矩阵的相位进行N台阶量化，使连续的相位按照间隔重新采样； S3.对相位量化后的光场进行傅里叶变换得到成像面的光场矩阵； S4.计算成像面的光场矩阵的幅角矩阵和振幅矩阵，并计算成像面光强的均匀性U和效率η； S5.将成像面的复振幅矩阵的振幅使用防伪图案矩阵P替换后，进行逆傅里叶变换得到反射面光场矩阵，并将的振幅使用平面波矩阵进行替换； S6.重复步骤S2-S5，直到均匀性U和效率η符合设计要求，得到N台阶量化相位矩阵； S7.根据设计得到相位矩阵和设计中选择的台阶数N，代入公式得到单个周期内台阶状像素块的具体台阶次序矩阵； S8.计算单个周期内台阶高度矩阵，公式如下： ； 式中，λ为使用光源的中心波长或峰值波长，为台阶高度的倍增倍数，用来抑制非中心波长的光引起的色散。

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