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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利基于多触头微反射镜的堆叠片曲面变形测量装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117367315B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311252093.2，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权基于多触头微反射镜的堆叠片曲面变形测量装置及方法是由朱金龙;赵翔宇设计研发完成，并于2023-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于多触头微反射镜的堆叠片曲面变形测量装置及方法在说明书摘要公布了：本发明属于表面三维形貌测量相关技术领域，并公开了一种基于多触头微反射镜的堆叠片曲面变形测量装置及方法。该测量装置包括光源、阵列掩膜、分光器、反射镜、多触头微反射镜和相机，分光器设置在光源后方，阵列掩膜设置在分光器和光源中间，反射镜和多触头微反射镜均设置在分光器后方，待测堆叠片设置在多触头微反射镜后方；阵列掩膜用于将光源发出的光按照掩膜阵列的分布分为多束平行入射的光，一束光线用于检测单个堆叠片的曲面变形；多触头微反射镜的前端设置有多个微反射镜，在测量过程中，单个微反射镜伸入相邻的待测堆叠片之间进行检测。通过本发明，解决堆叠片中多个堆叠片表面曲面变形同时测量的问题。

本发明授权基于多触头微反射镜的堆叠片曲面变形测量装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于多触头微反射镜的堆叠片曲面变形测量装置，其特征在于，该测量装置包括光源1、阵列掩膜2、分光器3、反射镜5、多触头微反射镜9和相机7，其中， 所述分光器3设置在所述光源1后方，所述阵列掩膜2设置在所述分光器3和所述光源1中间，所述反射镜5和多触头微反射镜9均设置在所述分光器3后方，待测堆叠片11设置在所述多触头微反射镜9后方； 所述阵列掩膜2用于将光源发出的光按照掩膜阵列的分布分为多束平行入射的光，一束光线用于检测单个堆叠片的曲面变形；所述多触头微反射镜9的前端设置有多个微反射镜，在测量过程中，单个微反射镜伸入相邻的待测堆叠片之间进行检测，微反射镜彼此之间的间距按照待测堆叠片中相邻堆叠片之间的间隙设定； 光源1发出的光经过所述阵列掩膜2分为几束平行光，对于其中的一束平行光而言，该束平行光经过所述分光器3被分为方向不同的两束光，一束进入所述反射镜5作为参考光，一束进入所述多触头微反射镜9中的一个微反射镜中作为测量光；所述测量光经过所述多触头微反射镜9反射照射在待测堆叠片表面被该待测堆叠片反射，反射的光线原路返回至所述分光器3；同时，所述参考光被所述反射镜5反射进入所述分光器3，所述参考光和测量光均被所述分光器3反射并进入所述相机7中汇合，以此形成干涉图案。

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