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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120821160B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511042766.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法是由晋云霞;曹红超;邵建达;王云坤;张益彬;汪瑞;韩昱行;孔钒宇设计研发完成，并于2025-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法在说明书摘要公布了：一种反射式双光束干涉曝光系统兼顾刻线密度和像差的装调方法，包括：构建刻线密度标准模块，生成用于调整曝光系统刻线密度的标准参考光束；搭建反射式双光束干涉曝光系统，分别以±1级标准参考光束经离轴抛物面反射镜聚焦后的点，作为双光束光路中各离轴镜的名义焦点，通过不断调整离轴抛物面反射镜的空间位置并结合球面干涉仪波前测量，使离轴镜名义焦点与真实焦点空间位置重合，完成双光束干涉曝光系统搭建。本发明解决了反射式双光束干涉曝光系统，在装调过程中像差和刻线密度难以同时精确控制问题，为米量级大口径反射式干涉曝光系统的高精度装调提供了新的思路。

本发明授权一种反射式双光束干涉曝光系统及其兼顾刻线密度和像差的装调方法在权利要求书中公布了：1.一种兼顾刻线密度和像差的反射式双光束干涉曝光系统装调方法，其特征在于，包括： 构建刻线密度标准模块，所述刻线密度标准模块包括： 激光自准直仪，用于发射平行激光束； 标准参考光栅，其周期，其中，λr为激光自准直仪输出波长，λe为紫外曝光光源输出波长，d为目标光栅周期； 大口径标准平面反射镜，用于反射衍射光并实现光路自准直； 半透半反镜和CCD相机，用于监测干涉条纹并校准光路垂直性； 所述构建刻线密度标准模块，具体包括： 安装激光自准直仪和标准参考光栅，调整二者相对位置，使激光自准直仪发出的平行激光束垂直入射到标准参考光栅表面，经分束后形成两束±1级反射衍射光以及两束±1级透射衍射光，其中，标准参考光束的衍射角θ，即反射衍射光与标准光栅表面法线的夹角θ满足如下公式： ； 利用所述刻线密度标准模块生成±1级反射衍射光和±1级透射衍射光作为参考光束，通过调整所述大口径标准平面反射镜的俯仰和偏摆角度，使透射衍射光与反射衍射光在CCD相机上叠加干涉，直至干涉条纹消失，完成大口径标准平面反射镜垂直校准； 构建反射式双光束干涉曝光系统，通过调整离轴抛物面反射镜的空间位置并结合球面干涉仪波前测量，使所述大口径标准平面反射的大口径光束的波前像差最小，确定双光束光路中各离轴镜的真实焦点位置，完成刻线密度精确的双光束干涉曝光系统搭建； 所述半透半反镜的安装位置满足：将CCD相机捕捉的干涉光束分束至计算机，同时允许部分光束反射回大口径平面反射镜以形成自准直回路。

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