森一量子科技(厦门)有限公司陈腾波获国家专利权
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龙图腾网获悉森一量子科技(厦门)有限公司申请的专利一种检测基片平整度的装置及基片校准方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121498601B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202610032796.1,技术领域涉及:G01B11/30;该发明授权一种检测基片平整度的装置及基片校准方法是由陈腾波;高浩然;林镇强;张榕贵;李来超;廖夏凤;柯剑斌;刘富裕设计研发完成,并于2026-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种检测基片平整度的装置及基片校准方法在说明书摘要公布了:一种检测基片平整度的装置及基片校准方法,该装置包括装置支架、激光组件和定位器;装置支架包括两个水平间隔设置并竖向延伸的第一支架、第二支架和横向连接件;第一支架和第二支架之间形成校准区域;激光组件可竖向滑接地安装于第一支架上;该激光组件包括上下固定间隔设置的第一激光模块和第二激光模块,第一激光模块和第二激光模块同步滑动;该第一激光模块斜向下设置,能够朝向校准区域发射与水平面呈一定角度的倾斜激光射线,该第二激光模块水平设置,能够朝向第二支架方向发射水平激光射线;定位器高度可调地安装于第二支架上。借此,利用该装置和方法能够在炉口处就校准好基片的平整度,能够提升薄膜生产的合格率。
本发明授权一种检测基片平整度的装置及基片校准方法在权利要求书中公布了:1.一种基片校准方法,其特征在于,采用一种检测基片平整度的装置对基片进行校准,所述装置包括装置支架、激光组件和定位器; 所述装置支架包括两个水平间隔设置并竖向延伸的第一支架和第二支架,第一支架和第二支架底部的纵向一侧相连有横向连接件;第一支架、第二支架和横向连接件之间形成校准区域; 所述激光组件可竖向滑接地安装于第一支架上;该激光组件包括竖向上下固定间隔设置的第一激光模块和第二激光模块,激光组件上下滑动时带动第一激光模块和第二激光模块同步滑动; 该第一激光模块斜向下设置,能够朝向校准区域发射与水平面呈一定角度的倾斜激光射线,该第二激光模块水平设置,能够朝向第二支架方向发射水平激光射线; 所述定位器高度可调地安装于第二支架上;所述第二支架上设有竖向分布的刻度线; 所述方法包括如下步骤: S1、校准装置: S11、准备一个水平的工作台; S12、将基片放置在水平工作台上,将装置放置于水平地面并围设于工作台及基片的外围,使基片位于校准区域内; S13、控制第二激光模块发射水平激光射线,令第二支架上接收到水平激光射线;然后将激光组件沿着第一支架进行竖向移动,当水平激光射线照到基片上且第二支架上没有接收到水平激光射线时,再往上移动激光组件,使水平激光射线刚好重新出现于第二支架上时,将定位器放置固定于第二支架上重新出现的水平激光射线所照射的位置处; S14、控制激光组件下移,使水平激光射线重新照射基片,然后控制第一激光模块向基片发射45°倾斜激光射线,将第二支架上经基片反射出来的激光点标记为A1,记录该激光点A1与定位器上端的竖向距离L1;同时,在横向连接件上纵向对应基片横向两端的位置做记号; S15、根据激光点A1在第二支架的刻度线位置以及基片上入射点与第二支架之间的水平间距H,计算若倾斜激光射线为30°和60°时对应的激光点与定位器上端的竖向距离,并分别记为L30和L60; S2、校准基片: S21、将基片放在籽晶夹处,将步骤S1中校准后的装置放在生长炉和籽晶夹外侧,并根据横向连接件上的记号,对准基片以确定装置的水平横向放置位置,同时选定一个横向连接件和基片之间的纵向可变距离V,并确保水平激光射线和倾斜激光射线均能够照射到基片上; S22、控制第二激光模块发射水平激光射线,并竖向移动激光组件,在水平激光射线照到基片上时,若第二支架上没有接收到水平激光射线,就上移激光组件,并将定位器放置在第二支架上水平激光射线刚好重新出现的位置; S23、将激光组件重新下移,使水平激光射线照射基片,控制第一激光组件向基片发射与步骤S1中同角度的倾斜激光射线,将第二支架上经基片反射出来的激光点标记为A2,并记录激光点A2到定位器上端的竖向距离L2,对比L1和L2,当两者相同时,判断基片处于水平,反之,对比L2和L30或L60的差值,并以此为参考,对基片的位置进行快速微调,直至基片旋转至少一周后,L1始终能够等于L2; S24、通过调整装置纵向位置,进而至少调整一次纵向可变距离V的大小,并重复步骤S22和S23,最终完成基片安装平整度的校准。
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