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龙图腾网获悉匠岭科技(上海)有限公司申请的专利平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117409084B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311337413.4，技术领域涉及：G06T7/80；该发明授权平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质是由唐毅成;倪赛健设计研发完成，并于2023-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质。其中，所述平场校正的方法，包括：提供待校正相机和空白晶圆；采集所述空白晶圆的暗场图像；采集所述空白晶圆的明场图像；根据所述空白晶圆的暗场图像和明场图像进行所述待校正相机的平场校正计算处理。本发明所提供的技术方案本发明的技术方案中，采用空白晶圆作为平场校正的目标物，所述空白晶圆在生产过程中，处于无尘环境中，不容易被污染，晶圆表面灰度一致性极高，能够解决现有平场校方法中平场目标难易保障足够的尺寸和均匀度等问题。

本发明授权平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种平场校正的方法，其特征在于，包括： 提供待校正相机和空白晶圆，所述待校正相机为线扫相机； 通过所述待校正相机采集所述空白晶圆的暗场图像； 通过所述待校正相机采集所述空白晶圆的明场图像，包括：在明场条件下，通过所述待校正相机分别采集所述空白晶圆在i个位置处的表面图像，i≥3；所述i个位置沿同一直线排列，且i个位置的空白晶圆能够完全覆盖所述待校正相机水平方向的视野大小，所述待校正相机采集图像过程的扫描方向与晶圆承载运动模块承载空白晶圆进行水平平移的方向垂直； 根据所述暗场图像和明场图像，对所述待校正相机拍摄的待校正图片进行平场校正，得到校正后图片，包括：统计所述暗场图像中每一列的灰度值P1和所述明场图像中每一列的灰度值P2，所述灰度值包括图像中该列所有像素点像素值的众数、平均数或中位数；设定所述明场图像的所有列的灰度值P2的平均值、中位数或众数为平场校正目标值T；计算所述明场图像每一列的灰度值P2和所述暗场图像中每一列的灰度值P1的差值；对所述平场校正目标值T和所述差值作除法运算，得到每一列的校正系数k；利用所述暗场图像中每一列的灰度值P1和校正系数k校正所述待校正图片中的每一个像素，得到校正后图片； 统计验证所述校正后图片中像素的灰度值分布是否均匀，包括：统计所述校正后图片中每一列中每一个像素点的校正值Pn’的众数，平均数或者中位数为这一列的校正后灰度值Gn；计算所有列的校正后的灰度值Gn的标准差S；若标准差S小于设定标准差，确定所述校正后图片中像素的灰度值分布均匀。

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