盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司苏政获国家专利权
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龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120878605B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511376375.2，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置是由苏政;贾社娜;邓新平设计研发完成，并于2025-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置在说明书摘要公布了：本申请提出了一种基板处理装置，包括基板载台、驱动装置、背喷组件、中间通道和密封装置。基板载台，用于承载基板；驱动装置包括旋转轴，旋转轴与基板载台同轴固定连接，并位于基板载台下方；中间通道，为沿旋转轴的轴线贯穿基板载台和旋转轴的中空孔道；背喷组件，穿设于中间通道，并与中间通道的内壁之间形成环隙；密封装置，与驱动装置的底部和背喷组件密封连接，密封装置包括排液部和收集空间，收集空间与环隙连通。本申请通过设置与驱动装置的底部和背喷组件密封连接的密封装置，并利用排液部及时排出流入收集空间的处理液，有效地防止了处理液腐蚀其他器件，也防止了外界气体中的颗粒物通过环隙污染基板。
本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，包括： 基板载台，用于承载基板； 驱动装置，包括旋转轴和电机定子，所述旋转轴与所述基板载台同轴固定连接，并位于所述基板载台下方，所述电机定子围设在所述旋转轴的外周，所述驱动装置用于驱动所述基板载台旋转； 中间通道，为沿所述旋转轴的轴线贯穿所述基板载台和所述旋转轴的中空孔道； 背喷组件，穿设于所述中间通道，并与所述中间通道的内壁之间形成环隙；以及 密封装置，与所述电机定子的底部和所述背喷组件密封连接，所述电机定子和所述背喷组件处于相对静止状态，所述密封装置包括排液部和收集空间，所述排液部用于排出所述收集空间内的处理液，所述收集空间与所述环隙连通，所述收集空间用于从所述环隙接收处理液，所述密封装置用于密封所述环隙的下端。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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