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龙图腾网获悉宁波锦辉光学科技股份有限公司申请的专利连续环形真空镀膜系统及镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121472803B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610018299.6，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权连续环形真空镀膜系统及镀膜方法是由陈顺;王志东;秦广利;施和泽;周烨;王清;熊中情设计研发完成，并于2026-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本连续环形真空镀膜系统及镀膜方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种连续环形真空镀膜系统及镀膜方法，属于真空镀膜技术领域。该系统包括呈闭环回路布局的产线主体和传输机构，工艺通道内依次相邻布置化学气相沉积区、隔离模组和物理气相沉积区。所述隔离模组包括流阻通道、环形差分抽气槽及喷射单元。其中，流阻通道内壁与载具轮廓精密匹配以形成微小狭缝间隙；环形差分抽气槽沿周向凹设于通道中部并连接独立高真空泵组，用于建立周向均匀的真空隔离带；喷射单元用于形成逆向气动阻隔屏障。本发明通过几何限流、差分抽气与气动阻隔的耦合作用，在无实体闸阀阻隔的条件下，在CVD与PVD区之间构建了高梯度且稳定的差分压力隔离环境，实现了两种工艺的高效连续集成。

本发明授权连续环形真空镀膜系统及镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种连续环形真空镀膜系统，其特征在于，包括呈闭环回路延伸的产线主体10和传输机构20，所述传输机构20包括用于承载基片沿所述产线主体10的延伸路径运动的载具21； 所述产线主体10沿其延伸路径依次限定出装卸区11、进样锁室12、工艺通道13和出样锁室14，所述进样锁室12与所述出样锁室14分别连接于所述装卸区11的两端，从而与所述工艺通道13共同构成闭环回路； 所述工艺通道13内维持真空环境，并包含沿所述载具21的运动方向依次相邻布置的化学气相沉积区131、隔离模组30和物理气相沉积区132； 所述隔离模组30包括： 流阻通道31，连通所述化学气相沉积区131与所述物理气相沉积区132，其内壁轮廓被构造成与所述载具21外轮廓相匹配，从而在所述载具21与所述流阻通道31的内壁之间界定出狭缝间隙311，所述狭缝间隙311被配置为通过几何间隙限制气体分子的通过流导； 环形差分抽气槽32，沿周向凹设于所述流阻通道31的中部内壁，所述环形差分抽气槽32连接至独立的高真空泵组321，用于在所述流阻通道31的中部截面建立真空隔离带； 喷射单元33，设置于所述流阻通道31靠近所述物理气相沉积区132的一端，用于向所述流阻通道31内喷射具有定向动量的惰性气体，以在所述流阻通道31内形成气动阻隔屏障； 所述传输机构20包括沿所述产线主体10底部铺设的闭环导轨22以及沿所述闭环导轨22延伸方向间隔分布的多个驱动单元23；其中，位于所述化学气相沉积区131内的驱动单元23与位于所述物理气相沉积区132内的驱动单元23分别电连接至独立的伺服控制器，以驱动所述载具21在所述化学气相沉积区131和所述物理气相沉积区132内以不同的速度运行； 所述驱动单元23包括设置于所述产线主体10外部的伺服电机231、穿设于所述产线主体10壁体上的密封组件232以及设置于所述产线主体10内部并与所述载具21摩擦接合的摩擦驱动轮233，伺服电机231的驱动轴穿过所述密封组件232并用于驱动摩擦驱动轮233转动； 位于所述化学气相沉积区131内的所述驱动单元23还包括防沉积护罩234，所述防沉积护罩234罩设于所述摩擦驱动轮233的外部，且所述防沉积护罩234的顶部开设有供所述摩擦驱动轮233的轮缘伸出的接触窗口2341，所述防沉积护罩234连接至惰性气体源，以在所述防沉积护罩234内部维持高于所述化学气相沉积区131背景气压的局部正压。

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