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龙图腾网获悉诺德凯(苏州)智能装备有限公司申请的专利硅片的智能筛选方法以及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121712319B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610204110.2，技术领域涉及：H10P74/20；该发明授权硅片的智能筛选方法以及系统是由陆平;许伦;周平;刘宣宣;粟亮设计研发完成，并于2026-02-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本硅片的智能筛选方法以及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅片的智能筛选方法以及系统，本发明涉及智能筛选的技术领域，根据漫散射现象的检测而确定对应的表面缺陷，根据该表面缺陷、对应的工序和硅片的加工内容确定对应的多模态图像，对多模态图像进行深度学习，并深入量化各个表面缺陷的深度特征及灰度梯度变化，以输出硅片的缺陷事件，提高了硅片的缺陷事件的精准性。根据硅片的潜在风险和缺陷事件确定硅片的质量等级；将该硅片的质量等级和缺陷分布图映射至上游的优化工序，并输出该硅片的智能筛选路线，基于该硅片的智能筛选路线和上游维护机制确定该硅片的多个智能维护节点，并在各个智能维护节点中标记对应的维护内容，提高了硅片的维护精准性。

本发明授权硅片的智能筛选方法以及系统在权利要求书中公布了：1.一种硅片的智能筛选方法，其特征在于，包括： 硅片在硅片生产线中进行多个工序的加工，基于摄像头采集硅片的表面图像，根据硅片的表面图像的图像识别而确定对应的划痕，沿着该划痕的路径和低角度的照明系统凸显硅片表面的漫散射现象； 根据该漫散射现象的检测而确定对应的表面缺陷，根据该表面缺陷、对应的工序和硅片的加工内容确定对应的多模态图像，对多模态图像进行深度学习，并深入量化各个表面缺陷的深度特征及灰度梯度变化，以输出硅片的缺陷事件，该缺陷事件涵盖了表面缺陷的几何形态、纹理结构及光学特性； 对缺陷事件进行精细化分类，并识别出多个严重缺陷和轻微缺陷，对多个严重缺陷、轻微缺陷和硅片的当前图像进行多因素融合，以输出硅片在加工过程中的潜在风险，根据硅片的潜在风险和缺陷事件确定硅片的质量等级； 将该硅片的质量等级和缺陷分布图映射至上游的优化工序，并输出该硅片的智能筛选路线，基于该硅片的智能筛选路线和上游维护机制确定该硅片的多个智能维护节点，并在各个智能维护节点中标记对应的维护内容。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人诺德凯(苏州)智能装备有限公司，其通讯地址为：215100 江苏省苏州市吴中经济开发区东吴南路25号城南科技产业园7号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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