上海积塔半导体有限公司吴家明获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利晶圆清洗喷管获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224128029U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520579605.4，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型晶圆清洗喷管是由吴家明;单翌;闫晓晖设计研发完成，并于2025-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆清洗喷管在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种晶圆清洗喷管。晶圆清洗喷管包括：输液管，一端具有一出液口，所述输液管用于传输清洗液至所述出液口，并经由所述出液口将所述清洗液喷洒至晶圆边缘进行清洗，所述输液管的管壁外侧形成有至少一凹槽，所述凹槽沿所述输液管传输所述清洗液的方向延伸，并延伸至所述出液口下方；至少一吸液管，设置于所述凹槽内，一端延伸至所述出液口下方，用于将所述清洗液在所述出液口下方形成的液滴吸收。上述技术方案，通过在输液管的外壁设置凹槽，并在凹槽内设置能够吸收液体的吸液管，在出液口形成液滴时及时将液滴吸收，避免液滴落到晶圆表面造成晶圆偏边和过度洗边的问题，避免损伤晶圆表面的芯片，提高清洗质量。
本实用新型晶圆清洗喷管在权利要求书中公布了：1.一种晶圆清洗喷管，其特征在于，包括： 输液管，一端具有一出液口，所述输液管用于传输清洗液至所述出液口，并经由所述出液口将所述清洗液喷洒至晶圆边缘进行清洗，所述输液管的管壁外侧形成有至少一凹槽，所述凹槽沿所述输液管传输所述清洗液的方向延伸，并延伸至所述出液口下方； 至少一吸液管，设置于所述凹槽内，一端延伸至所述出液口下方，用于将所述清洗液在所述出液口下方形成的液滴吸收。
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