北京亦盛精密半导体有限公司骆宏晨获国家专利权
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龙图腾网获悉北京亦盛精密半导体有限公司申请的专利石墨基CVD碳化硅环沉积工装获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224133167U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520995565.1，技术领域涉及：C23C16/44；该实用新型石墨基CVD碳化硅环沉积工装是由骆宏晨;张慧设计研发完成，并于2025-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本石墨基CVD碳化硅环沉积工装在说明书摘要公布了：本实用新型属于化学气相沉积技术领域，具体涉及石墨基CVD碳化硅环沉积工装，旨在提高碳化硅环沉积过程中的生产效率和产品质量；该工装包括直径调节组件和多个支撑组件，直径调节组件由基座、驱动盘、盖板和滑动座组成，能够根据待沉积碳化硅环的直径，通过驱动盘旋转带动滑动座移动，实现支撑组件位置的精确调节；支撑组件由立柱、横杆和支撑座构成，支撑座为圆锥形设计，减少了与碳化硅环的接触面积，降低了材料间相互污染的风险，并确保碳化硅薄膜的均匀沉积；本发明结构设计合理，操作便捷，能够适应不同规格的碳化硅环，提高了设备的使用灵活性和生产的稳定性。
本实用新型石墨基CVD碳化硅环沉积工装在权利要求书中公布了：1.石墨基CVD碳化硅环沉积工装，其特征在于：包括直径调节组件，直径调节组件的上方设置有多个支撑组件5，支撑组件5用于支撑待沉积的碳化硅环，且多个所述支撑组件5围绕着直径调节组件的轴线等间距分布； 直径调节组件包括基座1，所述基座1的内部转动连接有驱动盘2，且基座1的顶部连接有盖板3，所述盖板3上滑动连接有滑动座4； 所述支撑组件5包括连接在滑动座4顶部的立柱51，所述立柱51上沿着其高度方向等间距设置有横杆52，所述横杆52上插接有支撑座53。
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