武汉高德智感科技有限公司黄晟获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉高德智感科技有限公司申请的专利一种黑体辐射源及其加热装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116164848B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211566353.9，技术领域涉及：G01J5/53；该发明授权一种黑体辐射源及其加热装置是由黄晟;吕才力;郝军军;潘想设计研发完成，并于2022-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种黑体辐射源及其加热装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种黑体辐射源及其加热装置，包括依次堆叠安装的导热座、传热座、黑体辐射源，所述导热座、所述传热座、所述黑体辐射源均向下凹陷，所述黑体辐射源的内凹面为曲面；所述导热座的外凸面设置有加热模组，所述导热座与所述黑体辐射源之间的空隙内均匀填充有能够传热的固态的填充介质，使得所述加热模组的热量能够均匀的传递至所述黑体辐射源，从而加热所述黑体辐射源。本发明用于测温模组做K场景，对曲面的黑体辐射源进行热传递，实现对曲面黑体的均匀加热，热传递效果稳定，可有效提高模组做K效果。
本发明授权一种黑体辐射源及其加热装置在权利要求书中公布了：1.一种曲面黑体辐射源的加热装置，其特征在于，所述加热装置包括黑体辐射源4和依次堆叠安装的导热座2、传热座3，所述导热座2和所述传热座3均为内凹结构，所述黑体辐射源4内嵌安装于所述传热座3的内凹结构中；所述导热座2的外凸面连接加热模组，所述加热模组依次向所述导热座2、所述传热座3和所述黑体辐射源4传递热量； 其中，所述黑体辐射源4为内凹结构，所述黑体辐射源4的内凹面为曲面，所述曲面的深度大于红外模组10的采集面； 其中，所述导热座2与所述传热座3之间形成第一填充空隙8，所述第一填充空隙8内填充柔性介质；所述传热座3与所述黑体辐射源4之间形成第二填充空隙9，所述第二填充空隙9内的填充介质为颗粒状介质；传热座3靠近传热边框处开设有填充孔31，通过填充孔31向第二填充空隙9内进行介质填充。
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