凌云光技术股份有限公司刘红获国家专利权
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龙图腾网获悉凌云光技术股份有限公司申请的专利工件缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116245808B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211708556.7,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权工件缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质是由刘红设计研发完成,并于2022-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本工件缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种工件缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质,属于图像处理技术领域。该方法包括:获取待测工件的第一工件图像;将第一工件图像输入至缺陷检测模型,获得缺陷检测模型输出的第一缺陷信息;其中,将第一工件图像输入至缺陷检测模型,获得缺陷检测模型输出的第一缺陷信息进一步包括:对第一工件图像的掩膜区域进行掩膜处理,得到第二工件图像,第一工件图像的掩膜区域基于目标缺陷分布密度图确定;对第二工件图像进行缺陷检测,得到第一缺陷信息;其中,缺陷检测模型是基于样本图像集及其对应的样本标签训练得到的,目标缺陷分布密度图用于表征样本图像集中各个缺陷类别分布的相对密度。该方法可以精准定位图像中的掩膜区域。
本发明授权工件缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种工件缺陷检测方法,其特征在于,包括: 获取待测工件的第一工件图像; 将所述第一工件图像输入至缺陷检测模型,获得所述缺陷检测模型输出的第一缺陷信息; 其中,所述将所述第一工件图像输入至缺陷检测模型,获得所述缺陷检测模型输出的第一缺陷信息进一步包括: 对所述第一工件图像的掩膜区域进行掩膜处理,得到第二工件图像,所述第一工件图像的掩膜区域基于目标缺陷分布密度图确定; 对所述第二工件图像进行缺陷检测,得到所述第一缺陷信息; 其中,所述缺陷检测模型是基于样本图像集及其对应的样本标签训练得到的,所述目标缺陷分布密度图用于表征所述样本图像集中各个缺陷类别分布的相对密度; 在获得所述缺陷检测模型输出的第一缺陷信息之后,所述方法还包括: 基于所述第一缺陷信息,得到第一缺陷分布密度图,所述第一缺陷分布密度图用于表征所述第一工件图像中各个缺陷类别分布的相对密度; 在确定所述第一缺陷分布密度图的缺陷分布密度大于所述目标缺陷分布密度图中对应种类缺陷的缺陷分布密度阈值的情况下,基于所述第一缺陷信息,获得所述待测工件的缺陷检测结果; 在确定所述待测工件的缺陷检测结果不正确的情况下,重新训练所述缺陷检测模型。
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