西南大学孙德恩获国家专利权
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龙图腾网获悉西南大学申请的专利一种抗氧化高熵氮化物涂层的制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116641022B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310559774.7，技术领域涉及：C23C14/16；该发明授权一种抗氧化高熵氮化物涂层的制备方法和应用是由孙德恩;李洋设计研发完成，并于2023-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抗氧化高熵氮化物涂层的制备方法和应用在说明书摘要公布了：一种抗氧化高熵氮化物涂层，涉及涂层技术领域，包括：于硬质合金表面依次设置的AlCr过渡层和TiZrAlCrSiN高熵氮化物工作层；其中所述TiZrAlCrSiN高熵氮化物工作层中的各元素原子百分含量为Al10～13at.％、Cr12～16at.％、Ti7～12at.％、Zr9～14at.％、Si5～7％at.％、N39～60at.％；本发明还提供了一种抗氧化高熵氮化物涂层的制备方法以及该抗氧化高熵氮化物涂层在硬质合金表面防护中的应用。
本发明授权一种抗氧化高熵氮化物涂层的制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种抗氧化高熵氮化物涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1对硬质合金进行抛光以及超声清洗，去除硬质合金上的锈迹、油污； 2将预处理的硬质合金放入磁控溅射镀膜设备的真空腔室内，控制其内部真空度，并向真空腔室内通入氩气，随后开启射频电源对硬质合金进行辉光清洗10~15min，以去除表面氧化层； 3将经辉光清洗后的硬质合金进行磁控溅射镀膜，形成AlCr过渡层； 4向真空腔室内通入氮气，将经磁控溅射的样品继续进行磁控溅射镀膜，形成TiZrAlCrSiN高熵氮化物工作层，其中氮气通量为5~20sccm，并且设置AlCr金属靶的溅射功率为250W，TiZr金属靶的溅射功率为300W，Si靶的溅射功率为100W。
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