上海应用技术大学周琼获国家专利权
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龙图腾网获悉上海应用技术大学申请的专利一种不粘锅的防粘涂层及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116752091B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310708249.7,技术领域涉及:C23C14/16;该发明授权一种不粘锅的防粘涂层及其制备方法是由周琼;岗志远;黄彪;陈强;张而耕;梁丹丹设计研发完成,并于2023-06-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种不粘锅的防粘涂层及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种不粘锅的防粘涂层及其制备方法,防粘涂层包括金属锅基体1表面的铬过渡层2以及铬过渡层2上的氮氧化铬层3;铬过渡层2氧含量为0.1~2at.%,其余为铬;氮氧化铬层3铬含量为40~50at.%,氧含量为25~35at.%,其余为氮;通过射频反应磁控溅射法沉积制备,得到铬氮氧化铬涂层;方法包括金属锅基体1预处理、环境准备、金属锅基体1离子刻蚀清洗、铬过渡层2沉积和氮氧化铬层3沉积。与现有技术相比,本发明不仅具有良好的耐腐蚀性、耐磨性,在高温下不易分解,耐受温度可以达到600℃,而且涂层具有优异的不粘性能,满足不粘锅涂层长期安全使用要求。
本发明授权一种不粘锅的防粘涂层及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种不粘锅的防粘涂层,其特征在于,该防粘涂层包括金属锅基体1表面的铬过渡层2以及铬过渡层2上的氮氧化铬层3; 所述的铬过渡层2氧含量为0.1~2at.%,其余为铬; 所述的氮氧化铬层3铬含量为40~50at.%,氧含量为25~35at.%,其余为氮; 通过射频反应磁控溅射法沉积制备,得到铬氮氧化铬涂层; 氮氧化铬层3沉积:通入反应气,打开Cr2O3靶,进行沉积; 反应气为氮气,流量为80~90sccm,真空度为0.5~0.7Pa; Cr2O3靶靶材功率为120~125W; 所述的防粘涂层中含有铬的氧化物和氮化物,氮化铬的高硬度、高熔点优异性能使得涂层具有高硬度和热稳定性,氧化铬的存在使得涂层具有良好的耐腐蚀性能; 所述的防粘涂层具有良好的疏水性,涂层的疏水角110°≤θ≤150°,滚动角α≤15°,疏水性能和不粘性能好。
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