上海大学谢雨洁获国家专利权
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龙图腾网获悉上海大学申请的专利一种二维高分子荧光编码纳米片及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117089181B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310241321.X，技术领域涉及：C08L67/04；该发明授权一种二维高分子荧光编码纳米片及其制备方法和应用是由谢雨洁;吴叶;程辉;陈雨;冯炜;余美花;代新月设计研发完成，并于2023-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种二维高分子荧光编码纳米片及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种二维高分子荧光编码纳米片及其制备方法和应用。本发明的二维高分子荧光编码纳米片，具有利用结晶性聚合物在二维方向上进行延伸结晶生长而实现的纳米片结构，荧光基团在结晶性聚合物延伸结晶生长过程中被引入纳米片结构中而实现荧光编码功能；本发明通过结晶性聚合物的引入增加组装驱动力，简化了纳米编码材料的制备方法，通过结晶自组装的方式可以实现室温、快速、温和条件的纳米编码材料制备，通过在外沿结晶的方式可以快速并精准的实现荧光在二维纳米范围上的信号写入，精准的荧光信息编码能力可以通过控制加入聚合物的顺序、质量、比例等实现，为体外诊断领域多目标分子的快速、高效、多指标、高通量的追踪和标记提供编码信号。
本发明授权一种二维高分子荧光编码纳米片及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种二维高分子荧光编码纳米片，其特征在于，包括聚合物晶核及一圈或多圈围绕在所述聚合物晶核外沿的外延聚合物圈层，所述多圈外延聚合物圈层由内向外依次排列，所述外延聚合物圈层通过结晶驱动自组装作用在所述聚合物晶核外沿进行平面方向上的延伸结晶生长形成，所述聚合物晶核和外延聚合物圈层共同构成纳米片结构；所有外延聚合物圈层中至少一层为荧光聚合物层，所述荧光聚合物层包含荧光基团修饰的聚合物，所述荧光聚合物层通过引入荧光基团修饰的聚合物而具有荧光信息。
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