北京化工大学宋宇飞获国家专利权
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龙图腾网获悉北京化工大学申请的专利一种杂多酸分子团簇插层的还原氧化石墨烯分离膜的制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117379989B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311533767.6，技术领域涉及：B01D67/00；该发明授权一种杂多酸分子团簇插层的还原氧化石墨烯分离膜的制备方法及其应用是由宋宇飞;杨祎昕;陈伟;楚进锋;安赛设计研发完成，并于2023-11-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种杂多酸分子团簇插层的还原氧化石墨烯分离膜的制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明涉及膜分离技术领域，公开了一种杂多酸分子团簇插层的还原氧化石墨烯分离膜的制备方法及其应用。所述膜包括基材和沉积于基材上的功能层，所述功能层为杂多酸分子团簇插层的还原氧化石墨烯层。将氧化石墨烯溶液、杂多酸溶液与异丙醇进行混合；将混合溶液沉积在基材表面成膜；将杂多酸‑氧化石墨烯膜进行原位光还原，得到还原氧化石墨烯复合膜。本发明首次使用杂多酸分子团簇作为插层剂，尺寸均一结构稳定，极易溶于水中，与氧化石墨烯复合后可以形成均一有序的二维通道，这对于复合膜的选择性分离是十分重要的。本发明有效避免了颗粒物填充进二维材料时带来的缺陷而导致的传质效果不好、分离效果差、易溶胀的问题。
本发明授权一种杂多酸分子团簇插层的还原氧化石墨烯分离膜的制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种还原氧化石墨烯复合膜，其特征在于，所述复合膜包括基材和沉积于基材上的功能层，所述功能层为杂多酸分子团簇插层的还原氧化石墨烯层； 所述还原氧化石墨烯复合膜的制备方法包括以下步骤： 1将氧化石墨烯溶液、杂多酸溶液与异丙醇进行混合； 2将步骤1得到的混合溶液沉积在基材表面成膜，得到杂多酸-氧化石墨烯膜； 3将步骤2得到的杂多酸-氧化石墨烯膜进行原位光还原，得到还原氧化石墨烯复合膜。
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