上海大学乔卫东获国家专利权
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龙图腾网获悉上海大学申请的专利一种低温蓝光防护薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118359385B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410460811.3，技术领域涉及：C03C17/25；该发明授权一种低温蓝光防护薄膜及其制备方法是由乔卫东;吴行阳设计研发完成，并于2024-04-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低温蓝光防护薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种低温蓝光防护薄膜及其制备方法，所述方法包括以下步骤：将硅源加入溶剂中，得到混合溶液；向混合溶液中加入催化剂，混合，得到水解溶液；向水解溶液中加入交联剂，混合，得到二氧化硅前驱体溶胶；向二氧化硅前驱体溶胶中加入银源，混合，陈化，得到银掺二氧化硅前驱体溶胶；将银掺二氧化硅前驱体溶胶涂覆于基底的表面，经紫外照射、干燥和退火后，于基底的表面形成低温蓝光防护薄膜，得到防蓝光膜片。与现有技术相比，本发明稳定性强，能有效吸收大部分有害蓝光，同时可保留大部分其他波段的有益蓝光，并确保其他可见光剩余波段光线的高透过率要求，保持透射光的色平衡，同时避免反射蓝光的二次伤害。
本发明授权一种低温蓝光防护薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种低温蓝光防护薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： S1、将硅源加入溶剂中，得到混合溶液； S2、向混合溶液中加入催化剂，混合，得到水解溶液； S3、向水解溶液中加入交联剂，混合，得到二氧化硅前驱体溶胶； S4、向二氧化硅前驱体溶胶中加入银源，混合，陈化，得到银掺二氧化硅前驱体溶胶； S5、将银掺二氧化硅前驱体溶胶涂覆于基底1的表面，经紫外照射、干燥和退火后，于基底1的表面形成低温蓝光防护薄膜，得到防蓝光膜片； 步骤S3中交联剂采用聚乙二醇，交联剂与步骤S1中硅源的体积比为0.05-0.8:0.2-1.5； 步骤S4中银源采用硝酸银，银源与步骤S1中硅源的摩尔体积比为0.1-2mol:0.2-1.5L； 步骤S5中退火的升温速率为20-100℃min，温度为200-300℃，时间为15-80min。
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