西安奕斯伟材料科技股份有限公司贺云鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司申请的专利一种抛光垫及最终抛光设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119589546B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411883649.2，技术领域涉及：B24B29/02；该发明授权一种抛光垫及最终抛光设备是由贺云鹏;王明设计研发完成，并于2024-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抛光垫及最终抛光设备在说明书摘要公布了：本公开提供了一种抛光垫及最终抛光设备，所述抛光垫包括：基体；设置在所述基体上的可变形单元，所述可变形单元能够通过变形使所述抛光垫在第一形状模式和第二形状模式之间切换，在所述第一形状模式中，所述抛光垫的抛光面形成有沟槽，在所述第二形状模式中，所述抛光垫的抛光面是平整的。
本发明授权一种抛光垫及最终抛光设备在权利要求书中公布了：1.一种抛光垫，其特征在于，所述抛光垫包括： 基体； 设置在所述基体上的可变形单元，所述可变形单元能够通过变形使所述抛光垫在第一形状模式和第二形状模式之间切换，在所述第一形状模式中，所述抛光垫的抛光面形成有沟槽，所述沟槽由所述基体和所述可变形单元共同形成，在所述第二形状模式中，所述可变形单元发生变形以消除所述沟槽，使得所述可变形单元与所述基体处于同一平面中，从而使所述抛光垫的整个抛光面是平整的， 其中，所述可变形单元被配置为在对晶圆进行抛光的过程中执行下述切换： 在初始抛光阶段，使所述抛光垫处于所述第一形状模式，以利用所述沟槽流通抛光液； 在末尾抛光阶段，使所述抛光垫切换至所述第二形状模式，以使所述抛光垫的表面平整并提升所述晶圆的表面平整度；以及 在所述晶圆抛光完成需取下时，再次切换至所述第一形状模式，以减小所述抛光垫对所述晶圆的吸附力。
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