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龙图腾网获悉合光光掩模科技(安徽)有限公司申请的专利多层光罩的关键尺寸控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120540002B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510976184.3，技术领域涉及：G03F1/68；该发明授权多层光罩的关键尺寸控制方法是由李成旺;张健澄设计研发完成，并于2025-07-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本多层光罩的关键尺寸控制方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种多层光罩的关键尺寸控制方法，包括：将多层光罩的版图分为多个芯片层，每个芯片层的四周均设有切割道区域；针对每个芯片层，在位于该芯片层的四周的切割道区域均摆放至少一组关键尺寸量测图形组，每一组关键尺寸量测图形组均包括至少一种尺寸与该芯片层的关键尺寸规格要求相匹配的密集图形以及至少一种尺寸与该芯片层的关键尺寸规格要求相匹配的孤立图形；制作多层光罩；测量多层光罩中的各组关键尺寸量测图形组的各个密集图形与各个孤立图形的尺寸；根据各个密集图形与各个孤立图形的尺寸的测量结果，对多层光罩的制作工艺进行控制。本发明可以解决多层芯片集成在一张光罩上制造导致的不同层芯片的关键尺寸均匀性下降的问题。

本发明授权多层光罩的关键尺寸控制方法在权利要求书中公布了：1.一种多层光罩的关键尺寸控制方法，其特征在于，所述控制方法包括： 将多层光罩的版图分为多个芯片层，每个所述芯片层的四周均设有切割道区域； 针对每个所述芯片层，在位于该芯片层的四周的每一所述切割道区域均摆放至少一组关键尺寸量测图形组，每一组所述关键尺寸量测图形组均包括至少一种尺寸与该芯片层的关键尺寸规格要求相匹配的密集图形以及至少一种尺寸与该芯片层的关键尺寸规格要求相匹配的孤立图形； 根据所述切割道区域排布有所述关键尺寸量测图形组的所述多层光罩的版图制作多层光罩； 测量所述多层光罩中的各组所述关键尺寸量测图形组的各个密集图形与各个孤立图形的尺寸； 根据各个所述密集图形与各个所述孤立图形的尺寸的测量结果，对所述多层光罩的制作工艺进行控制； 所述根据各个所述密集图形与各个所述孤立图形的尺寸的测量结果，对所述多层光罩的制作工艺进行控制，包括： 针对每个所述芯片层，根据位于该芯片层的四周的所述切割道区域的所有所述关键尺寸测量图形组中的各个密集图形与各个孤立图形的尺寸的测量结果，分别计算位于该芯片层的四周的所述切割道区域的每一种密集图形和每一种孤立图形的尺寸均匀性； 根据位于每一芯片层的四周的所述切割道区域的每一种密集图形和每一种孤立图形的尺寸均匀性，对所述多层光罩的制作工艺进行控制。

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