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龙图腾网获悉上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利一种反应腔体及等离子体处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121726305B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610209086.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种反应腔体及等离子体处理设备是由沈康;苏正扬;涂乐义设计研发完成，并于2026-02-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种反应腔体及等离子体处理设备在说明书摘要公布了：本发明涉及晶圆处理设备技术领域，尤其涉及一种反应腔体及等离子体处理设备，包括石英管、感应线圈和屏蔽遮挡构件，石英管设于处理室的顶部；感应线圈环绕设于石英管的外侧，且包括若干个沿石英管的轴向间隔排布的环形段，以及若干个分设于相邻两个环形段之间并用于相邻两个环形段连接的连接段；屏蔽遮挡构件环设于石英管和感应线圈之间，屏蔽遮挡构件包括若干个沿石英管的轴向设置的环形屏蔽部，以及若干个分设于相邻两个环形屏蔽部之间以用于连接相邻两个环形屏蔽部的弧形屏蔽部；相邻两个环形屏蔽部之间具有狭缝；本发明能够显著阻挡高能离子对石英管内壁的集中轰击，从而有效减轻石英管的侵蚀，减少颗粒物产生，提升机台寿命与工艺良率。

本发明授权一种反应腔体及等离子体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种反应腔体，其特征在于，包括： 石英管，设于处理室的顶部； 感应线圈，环绕设于所述石英管的外侧，并与外设的射频电源连接，用于产生能够进入所述石英管内的交变磁场以通过所述交变磁场感应出用于加速自由电子撞击工艺气体产生等离子体的涡流电场；所述感应线圈包括若干个沿轴向间隔排布的环形段，以及连接相邻两个所述环形段的连接段； 屏蔽遮挡构件，环设于所述石英管和所述感应线圈之间，所述屏蔽遮挡构件包括若干个沿轴向设置的环形屏蔽部，以及连接相邻两个所述环形屏蔽部的弧形屏蔽部；相邻两个所述环形屏蔽部之间具有狭缝，以供所述交变磁场进入所述石英管内； 所述环形屏蔽部在所述石英管的周向壁上的正投影结构覆盖所述环形段在所述石英管的周向壁上的正投影结构，所述弧形屏蔽部在所述石英管的周向壁上的正投影结构覆盖所述连接段在所述石英管的周向壁上的正投影结构，以物理阻断所述石英管内的低电势游离离子与通电时处于高电势的所述感应线圈之间的电场通路，从而防止所述等离子体对所述石英管的内壁的轰击。

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