芯恩(青岛)集成电路有限公司刘雄飞获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利喷嘴清洗装置及晶圆涂胶显影设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224142660U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520795450.8,技术领域涉及:B05C5/02;该实用新型喷嘴清洗装置及晶圆涂胶显影设备是由刘雄飞;杨万超设计研发完成,并于2025-04-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷嘴清洗装置及晶圆涂胶显影设备在说明书摘要公布了:本申请提供了一种喷嘴清洗装置及晶圆涂胶显影设备,其中,喷嘴清洗装置包括清洗箱、供液机构,超声波发生机构、排液机构和液位检检测机构,供液机构与清洗箱连通,用于对清洗箱注入清洗液,超声波发生机构,连接于清洗箱,排液机构与清洗箱连通,用于将清洗液排出清洗箱,液位检测机构,设置于清洗箱内用于对于清洗箱内的清洗液的液面高度进行检测,通过超声波发生机构,使清洗箱内的清洗液体发生空化作用,从而将附着在喷嘴上的胶体从喷嘴上去除,达到对喷嘴的清洗目的,并防止因胶体从喷嘴上脱落而影响晶圆的质量。
本实用新型喷嘴清洗装置及晶圆涂胶显影设备在权利要求书中公布了:1.一种喷嘴清洗装置,用于对喷嘴进行清洗,其特征在于,包括: 清洗箱; 供液机构,与所述清洗箱连通,用于对所述清洗箱注入清洗液; 超声波发生机构,连接于所述清洗箱,用于产生超声波; 排液机构,与所述清洗箱连通,用于将所述清洗液排出所述清洗箱; 液位检测机构,设置于所述清洗箱内,并与所述供液机构和所述排液机构电连接,在所述液位检测机构检测到所述清洗液的液面高于第一液位高度时,控制所述供液机构停止向所述清洗箱内注入所述清洗液;在所述液位检测机构检测到所述清洗液的液面低于第二液位高度时,控制所述排液机构停止将所述清洗液排出所述清洗箱; 其中,所述第二液位高度低于所述第一液位高度。
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