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龙图腾网获悉高频(北京)科技股份有限公司申请的专利一种高磷含氟废水深度处理系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224147866U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520427923.9，技术领域涉及：C02F9/00；该实用新型一种高磷含氟废水深度处理系统是由汤小尚;陈达设计研发完成，并于2025-03-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高磷含氟废水深度处理系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种高磷含氟废水深度处理系统，包括高磷含氟废水均和池，高磷含氟废水均和池依次与反应系统、第一沉淀池、预处理池、第二沉淀池、澄清池相连，第一沉淀池与第二沉淀池底部均设置排泥口，澄清池的不合格产水口与高磷含氟废水均和池相连，澄清池的合格产水口依次与深度处理预处理过滤装置、过滤水池、高磷高氟深度处理树脂交换塔和产水池相连；高氟深度处理树脂交换塔的出水口与冲洗及再生进水总管路相连，高氟深度处理树脂交换塔与再生加药装置之间通过冲洗及再生进水总管路相连。采用本实用新型对电子芯片制造产生的含磷含氟废水进行处理，除磷除氟率达到99％以上。

本实用新型一种高磷含氟废水深度处理系统在权利要求书中公布了：1.一种高磷含氟废水深度处理系统，其特征在于：包括高磷含氟废水均和池17、反应系统、第一沉淀池6、预处理池7、第二沉淀池8、澄清池9、深度处理预处理过滤装置、过滤水池12、高磷高氟深度处理树脂交换塔、产水池15和再生加药装置，所述高磷含氟废水均和池17与所述反应系统的入水口相连，所述反应系统的出水口与所述第一沉淀池6相连，所述第一沉淀池6的上清液口与所述预处理池7相连，所述预处理池7的出口与所述第二沉淀池8相连，所述第二沉淀池8上端出水堰与所述澄清池9相连，所述第一沉淀池6与所述第二沉淀池8底部均设置排泥口，所述澄清池9的不合格产水口与高磷含氟废水均和池17相连，所述澄清池9的合格产水口依次与所述深度处理预处理过滤装置、所述过滤水池12、所述高磷高氟深度处理树脂交换塔和所述产水池15相连；所述高氟深度处理树脂交换塔的出水口与冲洗及再生进水总管路25相连，所述高氟深度处理树脂交换塔与再生加药装置之间通过冲洗及再生进水总管路25相连。

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