北京北方华创微电子装备有限公司张先鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利沉积环、工艺组件和工艺腔室获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224148151U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520712951.5，技术领域涉及：C23C14/34；该实用新型沉积环、工艺组件和工艺腔室是由张先鹏;边国栋;李冰;黄其伟;王刚;白鹏展;寇帅设计研发完成，并于2025-04-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积环、工艺组件和工艺腔室在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种沉积环、工艺组件和工艺腔室。沉积环包括：沉积槽，所述沉积槽包括位于内侧的第一凸环部、位于外侧的第二凸环部以及所述第一凸环部与所述第二凸环部之间的底壁；承载部，位于所述沉积槽的外侧，所述承载部的顶部具有抵接面，所述抵接面所处的平面低于所述第二凸环部的顶部，所述抵接面上形成有环形槽。在本实用新型的实施例中的沉积环用于与工艺腔室中的遮挡环配合，如图所示，当沉积环与遮挡环配合时，抵接面与遮挡环抵接，而通过在抵接面上设置环形槽，可以使抵接面与沉积环之间形成迷宫结构，使靶材粒子不易进入抵接面与沉积环的抵接位置，从而减少遮挡环与沉积环发生粘连的概率。
本实用新型沉积环、工艺组件和工艺腔室在权利要求书中公布了：1.一种沉积环10，用于工艺腔室，其特征在于，所述沉积环10包括： 沉积槽11，所述沉积槽11包括位于内侧的第一凸环部111、位于外侧的第二凸环部112以及所述第一凸环部111与所述第二凸环部112之间的底壁113； 承载部12，位于所述沉积槽11的外侧，所述承载部12的顶部具有抵接面121，所述抵接面121所处的平面低于所述第二凸环部112的顶部，所述抵接面121上形成有环形槽122。
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