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龙图腾网获悉福建金石智能装备制造有限公司申请的专利一种单体回转空间型ALD沉积镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224148169U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520552697.7，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种单体回转空间型ALD沉积镀膜设备是由曲永鹏;刘杰波;李志达;黄发明;刘通设计研发完成，并于2025-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种单体回转空间型ALD沉积镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种单体回转空间型ALD沉积镀膜设备，包括主腔体、左腔门、右腔门，所述左腔门与右腔门通过腔门铰链分别连接到主腔体两侧，左腔门与右腔门均可与主腔体组成独立的真空反应腔室，左腔门与右腔门上分别设计有多腔室转架，所述多腔室转架分成4n个独立的单面开口区，开口方向朝腔体侧壁一侧形成独立腔室，主腔体与左腔门、右腔门组成的真空反应腔室对应多腔室转架等分为4n个功能区，按顺时针循环对应分别为第一真空隔离区、前驱体B反应区、第二真空隔离区、前驱体A反应区。采用单工艺腔室配合双腔门结构，工艺生产同时进行下料前冷却及上料，设计多个等分的独立功能分区配合多腔室转架，提高工艺节拍，减少气源消耗，降低生产成本。

本实用新型一种单体回转空间型ALD沉积镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种单体回转空间型ALD沉积镀膜设备，其特征在于：包括主腔体1、左腔门2、右腔门3，所述左腔门2与右腔门3通过腔门铰链9分别连接到主腔体1两侧，左腔门2与右腔门3均可与主腔体1组成独立的真空反应腔室，左腔门2与右腔门3上分别设计有多腔室转架4，所述多腔室转架4分成4n个独立的单面开口区，开口方向朝腔体侧壁一侧形成独立腔室，每个腔室中均设有一个小转台5承载硅片架7，每个硅片架7可放置多层硅片6进行同时镀膜，所述主腔体1分别与左腔门2、右腔门3组成独立的真空反应腔室对应多腔室转架4等分为4n个功能区，按顺时针循环对应分别为第一真空隔离区a、前驱体B反应区b、第二真空隔离区c、前驱体A反应区d，每个功能分区相对应的主腔体侧壁上分别设计有真空法兰10+吹扫惰性气体引入接管11、前驱体B气体引入接管12、真空法兰10+吹扫惰性气体引入接管11、前驱体A气体引入接管13。

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