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龙图腾网获悉上海映智研磨材料有限公司申请的专利一种内外圈呈现密度梯度的无纺布抛光垫及其制备方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121624992B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610141197.3，技术领域涉及：B24B37/24；该发明授权一种内外圈呈现密度梯度的无纺布抛光垫及其制备方法和用途是由王海波;郭瑞轩;张姝设计研发完成，并于2026-02-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种内外圈呈现密度梯度的无纺布抛光垫及其制备方法和用途在说明书摘要公布了：本发明提供一种内外圈呈现密度梯度的无纺布抛光垫及其制备方法，无纺布基布包括半径为R的圆形；涂布聚氨酯树脂溶液以浸渍时，无纺布基布固定于旋转平台上呈水平原位旋转状态，通过一设于旋转平台上方的放料管于两个位置进行自上而下放料，随着旋转平台的转动料液向外圈扩散，从而完成两次涂布；两次涂布结束后，浸入DMF水溶液中以凝固；第一次涂布以浸渍时，放料管固定于抛光垫的第一位置的上方，第一位置距离圆形无纺布基布圆心的距离为R1，且R1=0.4R~0.6R；第二次涂布以浸渍时，放料管固定于抛光垫的第二位置的上方。该抛光垫加工2000pcs硅衬底速率保持稳定，且中间和边缘的去处量差异绝对值在60nm以内。

本发明授权一种内外圈呈现密度梯度的无纺布抛光垫及其制备方法和用途在权利要求书中公布了：1.一种内外圈呈现密度梯度的无纺布抛光垫的制备方法，其特征在于， 无纺布基布包括半径为R的圆形； 涂布聚氨酯树脂溶液以浸渍时，无纺布基布固定于旋转平台上呈水平原位旋转状态，通过一设于旋转平台上方的放料管于两个位置进行自上而下放料，随着旋转平台的转动料液向外圈扩散，从而完成两次涂布；两次涂布结束后，浸入DMF水溶液中以凝固； 第一次涂布以浸渍时，放料管固定于抛光垫的第一位置的上方，第一位置距离圆形无纺布基布圆心的距离为R1，且R1=0.4R~0.6R； 第二次涂布以浸渍时，放料管固定于抛光垫的第二位置的上方，第二位置距离圆形无纺布基布圆心的距离为R2，且R2=0R~0.2R； 涂布以浸渍时，旋转平台的转速为20~50rpm； 所述聚氨酯树脂溶液的固含量为18~22wt%，25℃下的粘度为500~2500cps； 第一次涂布以浸渍时，放料以涂布时间为80~100s； 第二次涂布以浸渍时，放料以涂布时间为25~35s； 凝固时，DMF水溶液的浓度为17~22wt%； 所述无纺布选自丙纶、涤纶、锦纶、粘胶纤维、腈纶、乙纶、氯纶、聚酯、聚酰胺中的一种； 所述无纺布的克重为200~300gcm2；所述无纺布的厚度为1~3mm； 所述聚氨酯树脂溶液通过原料聚氨酯溶液和DMF混合后获得；所述原料聚氨酯树脂溶液的固含量为25~35wt%，25℃下的粘度为10000~30000cps； 原料聚氨酯树脂的100%模量区间为10~30Mpa。

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