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龙图腾网获悉中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所申请的专利一种高精度的一一映射光幕测量装置设计方法及测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121632220B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610147329.3，技术领域涉及：G01D5/353；该发明授权一种高精度的一一映射光幕测量装置设计方法及测量装置是由李晶;文雪忠;李青竹;黄洁设计研发完成，并于2026-02-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高精度的一一映射光幕测量装置设计方法及测量装置在说明书摘要公布了：本发明属于动态目标高精度测量领域，公开了一种高精度的一一映射光幕测量装置设计方法及测量装置。本发明的高精度的一一映射光幕测量装置包括单平面对射光幕结构和多平面交错光幕结构；设计方法采用错位双平面，各平面具有光源阵列环和光纤接收环双圈结构，通过对射式交错排列，实现了共平面对射和多平面交错相结合，突破了器件结构限制提高了光幕精度，构建了毫米级的一一映射光幕系统。本发明的高精度的一一映射光幕测量装置设计方法及测量装置能够实现高精度、高准确度的运动目标测量，具有工程实用价值。

本发明授权一种高精度的一一映射光幕测量装置设计方法及测量装置在权利要求书中公布了：1.一种高精度的一一映射光幕测量装置设计方法，其特征在于，所述的设计方法包括以下步骤： S10.确定光幕结构框架尺寸； 根据被测范围和被测目标运动分布范围，确定光幕覆盖的面积尺寸，进而确定光幕结构框架尺寸； S20.确定光幕结构层数； 根据被测范围和被测目标运动位置测量精度，计算光幕网格密度要求，并结合光路光源的外形尺寸，判断单层光幕是否满足网格密度要求，进而确定是否通过双层光幕进行网格加密，或者根据需要测速的位置现场情况，确定是否需要设计双层光幕； S30.设计一一映射光幕测量装置； 综合光源和光纤外形尺寸，设计光源阵列环和光纤接收环的双圈结构，通过调整光幕结构框架，进行一一映射光幕测量装置设计，实现预先设置的光幕精度和光路准直； 一一映射光幕测量装置包括单平面对射光幕结构和多平面交错光幕结构； 单平面对射光幕结构为单层方框结构；单层方框结构的内圈为光源阵列环，单层方框结构的外圈为光纤接收环；一侧光源阵列1的光源出光口2正对对侧光纤阵列3的光纤头4，从一侧光源阵列1的光源出光口2发射的光入射到对侧光纤阵列3的光纤头4，形成光线路径5； 多平面交错光幕结构为双层方框结构；双层方框结构包括上下两层单层方框结构，上下两层单层方框结构交错排列。

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