南京航空航天大学;中国兵器科学研究院宁波分院魏东博获国家专利权
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龙图腾网获悉南京航空航天大学;中国兵器科学研究院宁波分院申请的专利一种管状物内壁双辉等离子处理装置及处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116516303B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310091775.3，技术领域涉及：C23C14/34；该发明授权一种管状物内壁双辉等离子处理装置及处理方法是由魏东博;林慕尧;陈小虎;张平则;杨凯;李淑琴设计研发完成，并于2023-02-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种管状物内壁双辉等离子处理装置及处理方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种管状物内壁双辉等离子处理装置，包括电极杆和底盘；底盘通过第一陶瓷支柱与靶材托盘相连，底盘通过第二陶瓷支柱与工件托盘相连；靶材托盘上设置靶材一及靶材二，靶材一、靶材二为圆盘形；工件托盘上预留与工件内径相等的孔，工件托盘上还设置空心保温罩，靶材一、靶材二中间位置设置工件，靶材一、靶材二、工件、空心保温罩的中心线重合；靶材托盘与电极杆一相连，工件托盘与电极杆二相连。本发明还公开了一种管状物内壁双辉等离子处理装置的处理方法。本发明的两个金属靶材外壁和管状物内壁为等间距，位于管状物的上下两侧，膜层厚度均匀致密，无孔洞和裂纹出现，与基体成冶金结合，提高使用寿命。
本发明授权一种管状物内壁双辉等离子处理装置及处理方法在权利要求书中公布了：1.一种管状物内壁双辉等离子处理装置，其特征在于：包括电极杆一1和底盘2；所述底盘2通过第一陶瓷支柱3与靶材托盘4相连，所述底盘2通过第二陶瓷支柱7与工件托盘8相连；所述靶材托盘4上设置靶材一5及靶材二6，所述靶材一5、靶材二6为圆盘形；所述工件托盘8上预留与工件9内径相等的孔，所述工件托盘8上还设置空心保温罩10，所述靶材一5、靶材二6中间位置设置工件9，所述靶材一5、靶材二6、工件9、空心保温罩10的中心线重合；所述靶材托盘4与电极杆一1相连，所述工件托盘8与电极杆二11相连； 所述靶材一5、靶材二6与工件9的距离相同，均为15～20mm； 所述靶材托盘4包括上层和下层，所述下层与上层分别预留用于放置靶材一5、靶材二6的凹槽，所述上层的凹槽呈空心阶梯状，所述上层的凹槽最小直径与工件9的内径相同；所述下层的凹槽直径与工件9的内径相同。
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