苏州芯能光电科技有限公司刘曜轩获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州芯能光电科技有限公司申请的专利直写成像设备拼接区域叠加方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118859645B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411190028.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权直写成像设备拼接区域叠加方法、装置、设备及存储介质是由刘曜轩;陈世勳设计研发完成，并于2024-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本直写成像设备拼接区域叠加方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开一种直写成像设备拼接区域叠加方法、装置、设备及存储介质，本申请方法通过调整初始伽玛分布函数中的参数，得到优化的目标伽玛分布函数，并基于该函数确定待优化重叠区域的目标能量分布曲线，可以提高曝光效果的均匀性和准确性，有助于提高光掩膜数据图案在基板上的写入过程中，能量分布的更加均匀，从而提高成像质量；通过确定相邻两个空间光调制器成像单元的待优化重叠区域，并基于实时能量分布数据调整初始伽玛分布函数，可以有效减少拼接区域的不均匀性，减少拼接缝隙处的能量分布不均匀问题，实现拼接区域的光滑过渡，提高整个基板的曝光效果一致性。
本发明授权直写成像设备拼接区域叠加方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种直写成像设备拼接区域叠加方法，其特征在于，所述方法包括： 获取待写入基板； 将所述待写入基板划分为多个待写入区域，其中，每个所述待写入区域上覆盖有一个空间光调制器成像单元； 获取待写入基板的光掩膜数据图案； 将所述光掩膜数据图案划分为多个光掩膜区分数据图案，每个所述光掩膜区分数据图案对应所述待写入基板上的一个所述待写入区域； 确定相邻两个空间调制器成像单元的待优化重叠区域； 获取预设的初始伽玛分布函数以及所述待优化重叠区域的实时能量分布数据； 根据所述实时能量分布数据调整所述初始伽玛分布函数中的初始参数，得到目标伽玛分布函数； 确定所述目标伽玛分布函数对应的所述待优化重叠区域的目标能量分布曲线； 控制每个所述待写入区域上的空间光调制器成像单元根据所述目标能量分布曲线对对应的待写入区域上的光掩膜区分数据图案进行曝光，以将每个所述光掩膜区分数据图案写入所述待写入基板。
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