杭州欧诺半导体设备有限公司李买贵获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州欧诺半导体设备有限公司申请的专利立式扩散炉喷管和立式扩散炉获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224172926U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202521121371.5,技术领域涉及:C30B31/16;该实用新型立式扩散炉喷管和立式扩散炉是由李买贵;张羽良;张嘉懿设计研发完成,并于2025-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本立式扩散炉喷管和立式扩散炉在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种立式扩散炉喷管和立式扩散炉,涉及立式扩散炉技术领域,立式扩散炉喷管包括第一管道、缓冲管道、喷气管道以及连通管道,喷气管道的两端分别连通第一管道和缓冲管道,喷气管道的侧壁设有多个喷气口,各喷气口沿喷气管道的延伸方向间隔设置,缓冲管道远离喷气管道的一端封闭;连通管道的两端分别连通喷气管道的两端并与第一管道连通。
本实用新型立式扩散炉喷管和立式扩散炉在权利要求书中公布了:1.一种立式扩散炉喷管,其特征在于,包括: 第一管道; 缓冲管道; 喷气管道,所述喷气管道的两端分别连通所述第一管道和所述缓冲管道,所述喷气管道的侧壁设有多个喷气口,各所述喷气口沿所述喷气管道的延伸方向间隔设置,所述缓冲管道远离所述喷气管道的一端封闭; 连通管道,所述连通管道的两端分别连通所述喷气管道的两端并与所述第一管道连通。
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