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龙图腾网获悉琶洲实验室(黄埔)申请的专利一种基于多亮度数据集的硅片隐裂检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117132549B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310977967.4，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种基于多亮度数据集的硅片隐裂检测方法是由徐晨;刘伟鑫;陈佳佳设计研发完成，并于2023-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于多亮度数据集的硅片隐裂检测方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于多亮度数据集的硅片隐裂检测方法，其中，包括：通过采集的隐裂硅片图像确定分辨出硅片纹理和隐裂缺陷的较佳硅片灰度值；取多种不同厚度的硅片进行拍照，并分别调整相机的曝光值；对采集到的硅片图像进行分割组合，得到各曝光值下的硅片的图像；对各硅片图像的硅片轮廓区域的取平均灰度值；取最小灰度差值所对应的硅片轮廓区域作为较佳灰度硅片图像；对较佳灰度硅片图像中的隐裂缺陷进行标注，生成包含隐裂缺陷的位置和类别信息的标签文件；重复获得多个硅片图像所对应的较佳灰度硅片图像的隐裂缺陷的位置和类别信息的标签文件；将所有较佳灰度硅片图像及对应的标签文件分通过YOLOV5模型进行训练。

本发明授权一种基于多亮度数据集的硅片隐裂检测方法在权利要求书中公布了：1.一种基于多亮度数据集的硅片隐裂检测方法，其特征在于，包括： 设定一隐裂缺陷与硅片的背景灰度差值阈值，对收集的每个硅片图像计算隐裂缺陷与硅片的背景灰度差值，当隐裂缺陷与硅片的背景灰度的差值大于等于该阈值时，则记录该硅片图像对应的硅片的背景灰度值，统计出现最多次的硅片的背景灰度作为硅片灰度值； 取多种不同厚度的硅片进行拍照，并分别调整相机的曝光值，进行硅片图像采集，确定各硅片图像为该硅片灰度值时，所对应的相机的各曝光值，并将相机的各曝光值进行记录； 对采集到的硅片图像进行分割组合，得到该各曝光值下的硅片的图像； 确定该各曝光值下各硅片图像的硅片轮廓区域； 对各硅片图像的硅片轮廓区域的取平均灰度值； 比对各平均灰度值，得出最接近硅片灰度值的最小灰度灰度差值； 取最小灰度差值所对应的硅片轮廓区域作为灰度硅片图像； 对灰度硅片图像中的隐裂缺陷进行标注，生成包含隐裂缺陷的位置和类别信息的标签文件； 重复获得多个硅片图像所对应的灰度硅片图像的隐裂缺陷的位置和类别信息的标签文件； 将所有灰度硅片图像及对应的标签文件通过模型进行训练，得到权重文件； 利用权重文件进行硅片隐裂检测。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人琶洲实验室(黄埔)，其通讯地址为：510799 广东省广州市黄埔区知凤街9号16层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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