肇庆市捷鸿电子有限公司莫益梁获国家专利权
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龙图腾网获悉肇庆市捷鸿电子有限公司申请的专利一种镍合金纳米电极及其制备方法与应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118407010B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410633930.4,技术领域涉及:C23C14/35;该发明授权一种镍合金纳米电极及其制备方法与应用是由莫益梁;韩志斌;梁东明设计研发完成,并于2024-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种镍合金纳米电极及其制备方法与应用在说明书摘要公布了:本发明公开了一种镍合金纳米电极及其制备方法与应用,所述镍合金纳米电极的制备方法包括以下步骤:首先对泡沫镍进行预处理,去除表面杂质,备用;然后在惰性气氛下,以所述预处理的泡沫镍为衬底,再以金属镍和金属铜或金属钼为靶材进行磁控溅射,在泡沫镍表面沉积镍铜复合层或镍钼复合层;最后再采用磁控溅射铝靶或铬靶,经水热氧化处理后,干燥即得。本发明的镍合金纳米电极制备工艺简单,相对于恒电流电沉积法,对制备环境无特殊要求,且成膜速率高,能够产生高质量、致密、均匀的薄膜,且制得的镍合金纳米电极不仅具有优异的电催化性能,而且稳定性好,可广泛应用于电池技术领域。
本发明授权一种镍合金纳米电极及其制备方法与应用在权利要求书中公布了:1.一种镍合金纳米电极的制备方法,其特征在于:包括以下步骤: S1、对泡沫镍进行预处理,去除表面杂质,备用; S2、在惰性气氛下,以所述预处理的泡沫镍为衬底,然后以金属镍和金属铜或金属钼为靶材进行磁控溅射,在泡沫镍表面沉积镍铜复合层或镍钼复合层; S3、在惰性气氛下,以所述步骤S2制得的含复合层的泡沫镍为衬底,采用磁控溅射铝靶或铬靶,经水热氧化处理后,干燥即得; 步骤S2中,所述磁控溅射的过程中,腔体真空度为0.8~1.5Pa,加热温度为500~650℃,底座转速为10~15rpm; 步骤S2中,以所述金属镍为靶材时,所述磁控溅射的功率为30~50W,溅射时间为2~8min;所述磁控溅射为射频磁控溅射,其中射频频率为8~12MHz; 步骤S2中,以所述金属铜或金属钼为靶材时,所述磁控溅射的功率为60~80W,溅射时间为5~10min;所述磁控溅射为直流磁控溅射; 步骤S3中,所述磁控溅射过程中,腔体真空度为0.8~1.2Pa,加热温度为60~80℃,溅射功率为60~90W,溅射时间为30~120s; 步骤S3中,所述水热氧化处理的温度为60~100℃,时间为5~8h。
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