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龙图腾网获悉深圳市宇辉光学科技有限公司申请的专利一种光学扩散板微结构缺陷检测方法、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121595563B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610136404.6，技术领域涉及：G01N21/88；该发明授权一种光学扩散板微结构缺陷检测方法、电子设备及存储介质是由张功民;孙培山设计研发完成，并于2026-01-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学扩散板微结构缺陷检测方法、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请公开了一种光学扩散板微结构缺陷检测方法、电子设备及存储介质。该方法包括：采集同一扩散板区域在至少两种不同光照角度下的图像并进行弹性配准，以消除因板材运动导致的图像错位；从配准后的图像中解耦分离出在所有光照下均稳定存在的物理缺陷特征与随光照变化的光影干扰特征；对物理缺陷特征进行增强与动态上采样处理，并以低置信度阈值生成疑似缺陷候选区域集合；针对每一候选区域，利用其外围纹理，通过生成式模型重构该区域无缺陷时的虚拟参考图像，通过比对残差判定真伪并输出置信度；根据所述置信度是否超过报警阈值来确定最终报警结果。本申请能够有效区分因机械微颤和微结构反光造成的伪影与真实物理缺陷，显著降低误报率。

本发明授权一种光学扩散板微结构缺陷检测方法、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学扩散板微结构缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤： 采集同一光学扩散板区域在高角度垂直光下的明场图像与在低角度掠射光下的暗场图像，基于两幅图像中微结构阵列的共性背景特征，进行图像配准，所述进行图像配准的步骤具体包括： 从所采集的图像中提取表征微结构拓扑规律的深层特征点； 为所述特征点分配权重，使代表所述光学扩散板的周期性微结构背景的特征点所获得的权重高于偏离所述周期性微结构背景的特征点所获得的权重； 基于高权重的特征点匹配关系，筛选出符合预设几何约束的匹配点对并计算图像间的弹性变换模型； 依据所述弹性变换模型对图像进行空间重采样，进行图像间的对齐； 将所述配准后的明场图像与暗场图像进行解耦，提取出物理缺陷特征图与光影干扰特征图； 对所述物理缺陷特征图进行增强与上采样处理，以放大缺陷信号并恢复其细节，基于处理后的特征图，采用预设的低置信度阈值生成疑似缺陷候选区域的集合，所述对所述物理缺陷特征图进行增强与上采样处理的步骤，具体包括： 对所述物理缺陷特征图进行全局最大值池化、全局平均池化及通道标准差计算； 将池化与通道标准差计算的结果进行融合，生成通道注意力权重向量，并对所述物理缺陷特征图进行重加权； 对经重加权的物理缺陷特征图进行上采样，依据所述物理缺陷特征图中微结构纹理的几何流向动态计算采样偏移量，并根据所述偏移量进行所述物理缺陷特征图的重组； 针对每个所述疑似缺陷候选区域，分析其外围正常纹理的几何规律，并以其为条件，生成该区域无缺陷时的虚拟参考图像；通过比对所述区域原图与所述虚拟参考图像的差异，判定其是否为真实物理缺陷，并输出对应的判定置信度，所述判定其是否为真实物理缺陷的步骤，具体包括： 对所述疑似缺陷候选区域的集合中的每一区域，对其中心部分进行掩膜，保留其外围纹理； 构建表征所述外围纹理几何规律的几何约束场； 将所述外围纹理与所述几何约束场共同作为条件，通过生成式模型推理出被掩膜区域的虚拟参考图像； 计算原图与虚拟参考图像的残差图，若残差的轮廓满足预设的条件则判定为真实缺陷，否则判定为伪影； 所述生成式模型为条件扩散模型；所述将所述外围纹理与所述几何约束场共同作为条件的步骤，具体是将二者共同编码为条件向量，输入至所述条件扩散模型，通过迭代去噪过程生成所述虚拟参考图像； 将所述判定置信度与预设的缺陷报警阈值进行比较，以确定最终是否报警。

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