深圳市豪鹏科技股份有限公司安未明获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市豪鹏科技股份有限公司申请的专利一种隔膜及电池获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224191168U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520451768.4，技术领域涉及：H01M50/449；该实用新型一种隔膜及电池是由安未明;刘金锁;廖兴群设计研发完成，并于2025-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种隔膜及电池在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种隔膜和电池，隔膜包括隔膜主体和设置在所述隔膜主体至少一侧的聚四氟乙烯层，所述聚四氟乙烯层的厚度为0.01mm~0.10mm。本实施例中，由于在隔膜主体上设置聚四氟乙烯层，其致密结构分布于隔膜主体表面，强化了隔膜主体的抗穿刺能力。这既能有效抑制锌酸根离子的扩散，又能确保充电时正极产生的氧气顺利抵达锌负极进行还原反应。此外，该聚四氟乙烯层的设置，还赋予了隔膜一定的疏水性，使得电解液被稳固地吸附于隔膜内部，从而显著延长了电池的使用寿命。
本实用新型一种隔膜及电池在权利要求书中公布了：1.一种隔膜，其特征在于，包括隔膜主体100和设置在所述隔膜主体100至少一侧的聚四氟乙烯层200，所述聚四氟乙烯层200的厚度为0.01mm~0.10mm； 所述隔膜主体100包括基膜110和功能涂层120，所述功能涂层120设置在所述基膜110的两侧；至少一个所述功能涂层120背离所述基膜110的一侧设置有所述聚四氟乙烯层200； 所述功能涂层120为层、层、层、层、PEDOTPSS层、MgO层、石墨烯碳纳米管层、聚多巴胺PDA层、陶瓷涂层、人工SEI层、硫化物氧化物电解质层中的一种。
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