比亚迪股份有限公司娄静雪获国家专利权
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龙图腾网获悉比亚迪股份有限公司申请的专利一种隔膜及其制备方法、二次电池和用电设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121367015B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511948624.0，技术领域涉及：H01M50/40；该发明授权一种隔膜及其制备方法、二次电池和用电设备是由娄静雪;宋正林;肖子伟;张萌;何科峰;陈三志设计研发完成，并于2025-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种隔膜及其制备方法、二次电池和用电设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种隔膜及其制备方法、二次电池和用电设备，包括基膜，所述基膜的厚度在沿所述基膜的中心至所述基膜的边缘的方向上的变化趋势满足：1×10‑4≤β≤2×10‑2，β=Hx‑γLx2；其中，Hx表示在所述基膜的中心至所述基膜的边缘之间的任意位置X的厚度，单位以μm计，Lx表示所述位置X至所述基膜的中心的距离，单位以cm计，γ为所述基膜的中心处的厚度，单位以μm计。本发明有助于改善隔膜在充放电过程中关于电流密度分布不均的相关问题。
本发明授权一种隔膜及其制备方法、二次电池和用电设备在权利要求书中公布了：1.一种二次电池，其特征在于，包括隔膜、正极片以及负极片，所述隔膜位于所述正极片与所述负极片之间； 所述隔膜包括基膜，所述基膜的厚度在沿所述基膜的中心至所述基膜的边缘的方向上的变化趋势满足：1×10-4≤β≤2×10-2，β=Hx-γLx2； 其中，Hx表示在所述基膜的中心至所述基膜的边缘之间的任意位置X的厚度，单位以μm计，Lx表示所述位置X至所述基膜的中心的距离，单位以cm计，γ为所述基膜的中心处的厚度，单位以μm计； 所述位置X包括L6位置、L3位置以及L2位置，L为在沿所述基膜的中心至所述基膜的边缘的方向上所述基膜的总长度； 所述正极片设有正极极耳，在沿所述隔膜的中心至所述隔膜的边缘的方向上，所述正极极耳设置在所述正极片与所述隔膜的边缘相对应的位置；和或， 所述负极片设有负极极耳，在沿所述隔膜的中心至所述隔膜的边缘的方向上，所述负极极耳设置在所述负极片与所述隔膜的边缘相对应的位置。
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