浙江奥首材料科技有限公司侯军获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江奥首材料科技有限公司申请的专利低介电光敏聚酰亚胺前驱体、光敏树脂组合物及制法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121405881B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202512018889.7，技术领域涉及：C08F293/00；该发明授权低介电光敏聚酰亚胺前驱体、光敏树脂组合物及制法与应用是由侯军;贺剑锋;沈艳;李玉倩;郭岩设计研发完成，并于2025-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本低介电光敏聚酰亚胺前驱体、光敏树脂组合物及制法与应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种低介电光敏聚酰亚胺前驱体、光敏树脂组合物及制法与应用，所述低介电光敏聚酰亚胺前驱体由二酐单体和二胺单体反应得到的聚合物与有机硅氮烷链段反应制得，是一种有机聚酰亚胺链段与有机硅氮烷链段交替排列的嵌段聚合物，这种结构在有效降低材料介电常数的同时，确保了其高附着力与高耐热性。本发明引入的硅氮烷基团在高温下可转化为SiO2结构，进一步降低聚酰亚胺主体的介电常数并增强耐热性能。此外，硅氮烷基团能与基材表面羟基反应生成硅羟基，从而显著提升聚酰亚胺与基材之间的粘接强度。
本发明授权低介电光敏聚酰亚胺前驱体、光敏树脂组合物及制法与应用在权利要求书中公布了：1.一种低介电光敏聚酰亚胺前驱体的制法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤1：在惰性气氛下，将二酐单体溶于有机溶剂后加入二胺单体和封端剂进行反应，得到聚合物溶液A； 步骤2：向所述聚合物溶液A中加入有机硅氮烷和自由基聚合引发剂，反应完成后得到聚合物溶液B； 步骤3：向聚合物溶液B中加入酯化剂和催化剂，反应后得到聚合物溶液C； 步骤4：将聚合溶液C稀释后，经过沉析、脱水、干燥，得到低介电光敏聚酰亚胺前驱体； 所述二酐单体、二胺单体、封端剂、有机硅氮烷、酯化剂、催化剂的摩尔比为1~1.5:0.6~1.3:0.1~1.6:0.03~0.8:2~3:2.6~6； 所述封端剂为能与二酐单体反应的含有不饱和双键和或三键的胺类化合物； 所述有机硅氮烷为含乙烯基的硅氮烷； 所述酯化剂为具有光聚合性的包含不饱和双键的醇类。
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