上海微电子装备(集团)股份有限公司周伟获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利激光退火装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115148622B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110351776.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权激光退火装置是由周伟;刘亚;苏海业;罗闻设计研发完成，并于2021-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本激光退火装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种激光退火装置。所述激光退火装置包括激光生成模块以及设置在主激光光路上的激光整形模块、合束模块和聚焦模块，由所述激光生成模块发出的激光束经所述激光整形模块整形成两个以上子激光束，所述两个以上子激光束经所述合束模块合束以及经所述聚焦模块汇聚后，在焦面上形成一光斑；其中，所述激光整形模块还包括用于调节所述光斑中半影的宽度比例半影调节单元。通过调节光斑中半影的宽度比例，可以调节该激光退火装置输出光斑的能量分布，从而满足不同的退火工艺需求，因而所述激光退火装置具有较高的工艺兼容性。
本发明授权激光退火装置在权利要求书中公布了：1.一种激光退火装置，其特征在于，包括激光生成模块以及设置在主激光光路上的激光整形模块、合束模块和聚焦模块，由所述激光生成模块发出的激光束经所述激光整形模块整形成两个以上子激光束，所述两个以上子激光束经所述合束模块合束以及经所述聚焦模块汇聚后，在焦面上形成一光斑；其中，所述激光整形模块还包括半影调节单元，所述半影调节单元用于调节所述光斑中半影的宽度比例，所述光斑中半影的宽度比例定义为13.5％峰值强度至90％峰值强度之间的光斑截面的单侧宽度，所述半影调节单元包括设置于所述激光整形模块后端且可移进或移出所述主激光光路的第一微光学元件，所述第一微光学元件包括垂直于所述主激光光路排布的微镜阵列。
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