武汉英飞光创科技有限公司唐永正获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉英飞光创科技有限公司申请的专利一种光复用组件和光模块获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116009149B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211527168.9，技术领域涉及：G02B6/293；该发明授权一种光复用组件和光模块是由唐永正;皮文博;李波;朱德锋;谢顶波设计研发完成，并于2022-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光复用组件和光模块在说明书摘要公布了：本发明涉及光通信技术领域，尤其涉及一种光复用组件和光模块；该光复用组件包括棱镜，棱镜包括第一反射面和第二反射面，第一反射面和第二反射面平行设置，第一反射面和第二反射面之间的第一侧壁为入射面，相对于第一侧壁设置的第二侧壁为出光面，入射面上设置有至少两个用于入射光通过的滤波片，出光面上设置有反射膜和增透膜，第一反射面、第二反射面和出光面位于入射光的光路上，经滤波片的至少两束入射光通过第一反射面、第二反射面以及反射膜反射合波成出射光后由增透膜射出。本申请提供的光复用组件，光路在棱镜内进行至少一次折返，使得棱镜沿光路传播方向的尺寸大幅度减小，大大减小了光复用组件占用的空间。
本发明授权一种光复用组件和光模块在权利要求书中公布了：1.一种光复用组件，其特征在于，包括棱镜，所述棱镜包括第一反射面和第二反射面，所述第一反射面和所述第二反射面平行设置，所述第一反射面和所述第二反射面之间的第一侧壁为入射面，相对于所述第一侧壁设置的第二侧壁为出光面，所述入射面上设置有至少两个用于入射光通过的滤波片，所述出光面上设置有并排布设的反射膜和增透膜，所述第一反射面、第二反射面和出光面位于入射光的光路上，经所述滤波片的至少两束入射光通过所述第一反射面、第二反射面以及反射膜反射合波成出射光后由所述增透膜射出，所述第一反射面和第二反射面倾斜设置且两者之间存在高度差，使得入射光在棱镜内发生至少一次折返的同时，所述出射光的光路在竖直方向上高于所述入射光的光路。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉英飞光创科技有限公司，其通讯地址为：430000 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区流芳大道52号凤凰产业园(武汉.中国光谷文化创意产业园)E地块5幢1层(1)厂房(2)厂房2层(1)厂房(2)厂房3层(1)厂房4层(1)厂房(2)厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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