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龙图腾网获悉深圳活力激光技术有限公司申请的专利一种半导体激光设备及光斑能量分布设置方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121806303B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610278763.5，技术领域涉及：G02B27/09；该发明授权一种半导体激光设备及光斑能量分布设置方法是由蔡万绍;赵森设计研发完成，并于2026-03-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体激光设备及光斑能量分布设置方法在说明书摘要公布了：本申请公开一种半导体激光设备及光斑能量分布设置方法，半导体激光设备包括激光器、第一微透镜阵列、调节透镜、成像透镜、成像件；成像件具有第一成像区和第二成像区；第一微透镜阵列、调节透镜、成像透镜、成像件依次间隔布设；调节透镜具有面向第一微透镜阵列的第一调光面和面向成像透镜的第二调光面；第二调光面具有依次布设的微透镜透射区和平面透射区，微透镜透射区设有调光微透镜阵列；一部分光束穿过微透镜透射区的调光微透镜阵列并投射于第一成像区，其余部分光束穿过平面透射区并同时投射于第一成像区和第二成像区。本申请的半导体激光设备可以调节光斑的能量呈梯度分布，使其能够满足实际生产要求。

本发明授权一种半导体激光设备及光斑能量分布设置方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体激光设备，其特征在于，包括： 激光器1，可沿第一直线方向发射光束； 第一微透镜阵列2，用于将光束分割和均匀化； 调节透镜3； 成像透镜4； 以及 成像件5，具有沿第二直线方向依次布设的第一成像区51和第二成像区52，所述第二直线方向与所述第一直线方向垂直； 所述第一微透镜阵列2、所述调节透镜3、所述成像透镜4、所述成像件5沿着所述第一直线方向依次间隔布设； 所述调节透镜3具有面向所述第一微透镜阵列2的第一调光面31和面向所述成像透镜4的第二调光面32；所述第二调光面32具有沿着第二直线方向依次布设的微透镜透射区33和平面透射区34，所述微透镜透射区33设有调光微透镜阵列35； 所述激光器发射光束时，一部分光束穿过所述微透镜透射区33的所述调光微透镜阵列35并投射于所述第一成像区51，其余部分光束穿过所述平面透射区34并同时投射于所述第一成像区51和所述第二成像区52； 所述第一微透镜阵列2具有多个沿着靠近所述调节透镜3的方向凸起的第一曲面21，多个所述第一曲面21阵列分布； 所述平面透射区34与所述第一调光面31平行，所述调光微透镜阵列35具有多个沿着靠近所述成像透镜4的方向凸起的第二曲面36，多个所述第二曲面36阵列分布，各所述第二曲面36具有沿着所述第二直线方向依次布设的第一半弧面37和第二半弧面38； 一部分光束依次穿过所述第一曲面21和所述第二曲面36的所述第一半弧面37后投射于所述第一成像区51。

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