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纺织,织造,皮革制品制作工具,设备的制造及其制品技术处理方法
  • 适用于M-LVDS的防电流倒灌电路
    适用于M-LVDS的防电流倒灌电路_重庆邮电大学_202511377917.8
    本发明公开了一种适用于M‑LVDS的防电流倒灌电路，涉及电路技术领域，由五个逻辑门电路，晶体管MP1、MP2、MP3、MP4、MN1及MN2，电阻R1、R2，二极管D1组成，当电路处于禁用或者掉电状态，能及时关断MP1及MN2，防止电流倒灌...
    2026-01-29
  • 一种数据压缩方法及相关装置
    一种数据压缩方法及相关装置_成都华为技术有限公司_202410961806.0
    一种数据压缩方法，用于提高数据的缩减效果和压缩速度。在该数据压缩方法中，在哈希表的表项中设定多个匹配位置，每个匹配位置均存放能够候选字符串的位置，以及候选字符串之后的其他字符串的指纹值。这样，在为待压缩数据中的字符串在哈希表中找到同一个表项...
    2026-01-29
  • 带有快速对准的光刻机和用于光刻机的对准系统
    带有快速对准的光刻机和用于光刻机的对准系统_昂图创新有限公司_202390000390.5
    本文公开了一种带有快速对准的光刻机和用于光刻机的对准系统的示例。该机器可包括：平台，该平台用于保持和移动衬底；和投影系统，该投影系统用于将图像投影在该衬底的多个暴露区域上。该机器还可包括对准系统，该对准系统定位成与该投影系统相邻。该对准系统...
    2026-01-29
  • 一种钢化玻璃生产用快速冷却装置
    一种钢化玻璃生产用快速冷却装置_山东蔚蓝钢化玻璃有限公司_202520287962.3
    本实用新型涉及钢化玻璃生产技术领域，公开了一种钢化玻璃生产用快速冷却装置，包括底座，所述底座的顶部两侧均开设有两个滑动槽，两个所述滑动槽的内部滑动连接有滑动块，所述连接管的外部在所述连杆的底部，所述连杆的外部两侧即远离所述滑动放置板的一侧均...
    2026-01-29
  • 一种适用于玻璃强化的蚀刻装置
    一种适用于玻璃强化的蚀刻装置_芜湖东信光电科技有限公司_202423026053.9
    本实用新型属于玻璃强化技术领域，具体地说，本实用新型涉及一种适用于玻璃强化的蚀刻装置；一种适用于玻璃强化的蚀刻装置，包括蚀刻保护机构和与蚀刻保护机构连接的间隔机构；通过第一间隔板堆叠设置，第一间隔板彼此之间留有间隙，用于放置玻璃，第二间隔板...
    2026-01-29
  • 一种光纤预制棒烧结炉的进气系统及进气控制方法
    一种光纤预制棒烧结炉的进气系统及进气控制方法_威海长和光导科技有限公司_202511907607.2
    本发明涉及光纤预制棒制造技术领域，尤其涉及一种光纤预制棒烧结炉的进气系统，包括：气体分布机构、旋转机构、传感检测机构、智能控制单元，智能控制单元接收来自传感检测机构的监测数据；基于监测数据预测气体浓度分布；根据预测结果，动态调节气体分布机构...
    2026-01-29
  • 电力计量柜用腔室隔分结构
    电力计量柜用腔室隔分结构_江苏永特电力科技有限公司_202520298525.1
    本实用新型涉及电力计量柜技术领域，尤其涉及电力计量柜用腔室隔分结构，电力计量柜用腔室隔分结构，包括矩形状的计量柜以及计量柜中设置的用于分隔计量柜腔室的隔板，所述计量柜腔室两侧壁呈竖直方向等距相对开设有螺纹孔，所述隔板左右两端壁处均穿设有用于...
    2026-01-29
  • 一种镀膜玻璃膜层及镀膜盖板
    一种镀膜玻璃膜层及镀膜盖板_信利光电股份有限公司_202423247578.5
    本实用新型公开了一种镀膜玻璃膜层及镀膜盖板，通过将顶部保护层、强化层与底部保护层设置在玻璃基板的正表面，油墨层和打底层设置在盖板背面，有效提升了盖板的整体性能，铜锆合金层提供了优异的硬度和耐磨性，铜锡合金层增添了美观性和耐腐蚀性，铜镍合金层...
    2026-01-29
  • 波纹刀头的热压模具及拆模工装
    波纹刀头的热压模具及拆模工装_石家庄百特工具有限公司_202520418997.6
    本实用新型提供了一种波纹刀头的热压模具及拆模工装，属于热压模具技术领域，波纹刀头的热压模具包括下模具和上模具。下模具设有热压槽，热压槽内的底面具有若干个向上凸出的第一压入部，第一压入部呈长条形结构。上模具的底面具有若干个向下凸出的第二压入部...
    2026-01-29
  • 一种白刚玉加工用铁屑过滤装置及使用方法
    一种白刚玉加工用铁屑过滤装置及使用方法_淄博岩旭磨料磨具有限公司_202511994831.X
    本发明涉及白刚玉加工技术领域，具体为一种白刚玉加工用铁屑过滤装置及使用方法，由均分活塞、粉末分配槽、分流带构成，通过重力分离与磁场切换的协同作用实现高效过滤，工作时，输入分流箱内的活动缓存座在复位拉簧控制下，与均分活塞联动实现间歇式定量供料...
    2026-01-29
  • 一种基于有理核函数的最大互相关熵卡尔曼滤波方法
    一种基于有理核函数的最大互相关熵卡尔曼滤波方法_洛阳理工学院_202410178729.1
    本发明一种基于有理核函数的最大相关熵卡尔曼滤波方法属于信号处理技术领域，具体步骤如下：步骤1)构建线性系统方程和量测方程；步骤2)选取有理二次核函数的核宽，且初始化系统状态和协方差；步骤3)根据系统方程，更新状态和协方差的一步预测；步骤4)...
    2026-01-29
  • 用于电信号的有效编解码器
    用于电信号的有效编解码器_伊顿智能动力有限公司_202080103609.5
    本发明提供了一种用于对信号进行压缩的方法，该方法包括：经由信号记录模块获取主信号；经由处理器通过以下项对该主信号的模型信号进行建模：经由该处理器获取采样信号；经由该处理器获取加窗信号；以及经由该处理器提取：具有基波量值和基波相位的基波频率波...
    2026-01-29
  • 一种静电旋风复合分离空气净化装置
    一种静电旋风复合分离空气净化装置_航宇智创科技(北京)有限公司_202011274222.4
    本发明公开了一种静电旋风复合分离空气净化装置，主要解决了静电除尘技术在高风速时效果差和旋风分离技术在低风速时效率低的问题，通过两种技术的有机结合，使所述一种静电旋风分离空气净化装置在不同风速工况下都有稳定的净化效果。
    2026-01-29
  • 一种基于重力储能的风光储算仓集成装置
    一种基于重力储能的风光储算仓集成装置_北京石岱重储科技有限公司_202520131895.6
    本实用新型提供一种基于重力储能的风光储算仓集成装置，该集成装置包括集成主体、重力储能模块、发电模块以及储存模块，集成主体包括位于基准面上的第一容纳部和位于基准面下的第二容纳部，重力储能模块包括发电块部和储能块部，发电块部设置于第一容纳部的上...
    2026-01-29
  • 基于磁弹簧的云台增稳装置、控制方法及云台
    基于磁弹簧的云台增稳装置、控制方法及云台_马栏山音视频实验室_202511689031.7
    本申请提供一种基于磁弹簧的云台增稳装置、控制方法及云台，涉及智能云台技术领域，该装置包括动子平台、底座、磁弹簧模块、电磁主动阻尼模块、传感模块和控制模块，其中：动子平台用于安装负载设备，与底座通过磁力耦合，磁弹簧模块用于通过永磁体间的斥力对...
    2026-01-29
  • 一种电源多路复用器切换掉电的解决电路
    一种电源多路复用器切换掉电的解决电路_重庆市兵威智训科技有限公司_202520385905.9
    本实用新型提供一种电源多路复用器切换掉电的解决电路，包括：第一分压件、第二分压件、第三分压件、第四分压件、第五分压件和电源多路复用器U12；将电源多路复用器U12的6引脚和3引脚的电压通过调整第二分压件、第三分压件、第四分压件和第五分压件的...
    2026-01-29
  • 一种微晶铁芯表面处理设备
    一种微晶铁芯表面处理设备_西安铭洋电力科技有限公司_202422644543.9
    本实用新型涉及表面处理设备技术领域，且公开了一种微晶铁芯表面处理设备，包括箱体，所述箱体上分别设置有形状调节机构、位置调节机构和压力调节机构；所述形状调节机构包括滑动连接在所述箱体内壁底部两侧的移动柱，两个所述移动柱相互靠近一端均固定连接有...
    2026-01-29
  • 一种夹取装置及光刻机
    一种夹取装置及光刻机_上海新毅东半导体科技有限公司_202520509374.X
    本实用新型属于微电子技术领域，尤其涉及一种夹取装置及光刻机。夹取装置的支撑座上相对设置有两个夹取组件，两个夹取组件滑动设置于支撑座且能够配合夹取工件，支撑座安装的驱动机构包括驱动件、凸轮和随动组件，驱动件与凸轮传动连接，凸轮表面设置有螺纹槽...
    2026-01-29
  • 占空比校准电路及方法、芯片和电子设备
    占空比校准电路及方法、芯片和电子设备_晶晨半导体(上海)股份有限公司_202210335675.6
    占空比校准电路及方法、芯片及电子设备，所述占空比校准电路通过计数单元采用时钟信号频率高于校正时钟信号的计数时钟信号获取预设计数周期内所述校正时钟信号的高电平状态和低电平状态下产生的计数脉冲的数量，从而获取校正时钟信号的实际占空比，与将校正时...
    2026-01-29
  • 一种光罩光学层的斜向蚀刻方法
    一种光罩光学层的斜向蚀刻方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511863509.3
    本发明涉及半导体产品制备技术领域，具体提供了一种光罩光学层的斜向蚀刻方法，光阻剂膜通过电子束曝光让剩余的光阻剂膜形成全反射光学图案，再以光阻剂膜作为保护层，让全反射光学图案蚀刻到硬遮蔽膜上，最后将硬遮蔽膜作为保护层，通过斜向干式蚀刻，让光学...
    2026-01-29
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