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纺织,织造,皮革制品制作工具,设备的制造及其制品技术处理方法
  • 模拟前端装置
    模拟前端装置_瑞昱半导体股份有限公司_202110820739.7
    本发明提供一种模拟前端装置，其包括放大器电路、第一增益控制电路以及追踪电路。放大器电路用于根据一第一输入信号产生一第一输出信号。第一增益控制电路用于根据一第一增益控制信号设定一第一电性元件，并经由该第一电性元件将该第一输入信号传输至该放大器...
    2026-03-26
  • 一种草坪专用井盖
    一种草坪专用井盖_浙江柳建建设有限公司_202520188022.9
    本实用新型公开了一种草坪专用井盖，涉及园林绿化技术领域，其技术方案要点是包括井盖和用于安装井盖的底座，其特征在于，所述底座内设有防反水机构和进水口，所述防反水机构包括U型沉淀槽、设置在U型沉淀槽内的排水通道、设置在排水通道下方且直径大于排水...
    2026-03-26
  • 功率放大电路、控制方法、装置、电子设备及介质
    功率放大电路、控制方法、装置、电子设备及介质_北京小米移动软件有限公司_202411321252.4
    本公开是关于一种功率放大电路、控制方法、装置、电子设备及介质。功率放大电路包括：功率放大器，功率放大器用于放大射频信号；保护电路，保护电路电连接于功率放大器和供电电源之间，保护电路用于对功率放大器进行供电保护；控制电路，控制电路与保护电路和...
    2026-03-26
  • 基于前馈电容的反相器型线性均衡器
    基于前馈电容的反相器型线性均衡器_上海交通大学_202511881062.2
    一种基于前馈电容的反相器型线性均衡器，包括：反相器型输入级单元、前馈电容通路、电感峰化负载及共模反馈(CMFB)模块，本发明通过采用反相器架构作为差分输入级，实现NMOS与PMOS器件的电流复用，获得高于传统共源级结构的等效跨导；设计中引入...
    2026-03-26
  • 一种数据采集中利用修正幂函数的滤波方法
    一种数据采集中利用修正幂函数的滤波方法_艾华(无锡)半导体科技有限公司_202511672172.8
    本发明是一种数据采集中利用修正幂函数的滤波方法，包括以下步骤：S1、采集数据并与上个周期数据比较，获取数据变化的偏差值。S2、利用修正幂函数抑制偏差值。S3、更新数据。S4、利用平均值函数再次抑制偏差，达到最终滤波效果。本发明的优点：方法设...
    2026-03-26
  • 一种支持超低压的电平转换电路
    一种支持超低压的电平转换电路_芯合电子(上海)有限公司_202511781645.8
    本申请实施例提供了一种支持超低压的电平转换电路，本申请解决了当第一PMOS管M3和第二PMOS管M4处于线性区时，上拉网络和下拉网络产生对拉的情况，但当第一PMOS管M3和第二PMOS管M4处于关断状态时，第一公共端节点nodea和第二公共...
    2026-03-26
  • 一种宽带可快速调频微波激励源
    一种宽带可快速调频微波激励源_北京七星华创微波电子技术有限公司_202610003709.X
    本发明公开了一种宽带可快速调频微波激励源，涉及微波激励源领域，包括集成化微波振荡模块、双环锁相环路模块、自适应性频率预校准模块、功率与频率联动调节单元、高速数字控制单元、功率放大模块、电源管理模块及电磁干扰自适配模块。本发明通过双环锁相环路...
    2026-03-26
  • 减小寄生力和/或力矩对投射曝光设备的成像质量的影响的方法以及具有模块的投射曝光设备
    减小寄生力和/或力矩对投射曝光设备的成像质量的影响的方法以及具有模块的投射曝光设备_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480053359.7
    本发明涉及一种投射曝光设备(1、101)，其具有至少一个模块(40、50)，‑其中，所述模块(40、50)包括流体通道(41、51)，所述流体通道(41、51)至少暂时地容纳加压流体(42、52)，以及‑其中，所述流体通道(41、51)连接...
    2026-03-26
  • 检查装置
    检查装置_株式会社斯库林集团_202511057292.7
    本发明提供一种可对被检查物照射更均匀的光的检查装置。检查装置(1)包括：光源(11)、第一光导(12)、均化器(14)、傅立叶变换透镜部(13)、照明光学系统(17)、测定台、成像光学系统(21)、以及图像传感器(25)。光源(11)射出光...
    2026-03-26
  • 一种双面卷对卷光刻设备
    一种双面卷对卷光刻设备_深圳市鑫浩自动化技术有限公司_202511994848.5
    本发明涉及一种双面卷对卷光刻设备，包括曝光机构和位于其两侧的放卷机构和收卷机构，曝光机构包括第一曝光平台和第二曝光平台，且两个曝光平台的入膜方向相反，曝光平台下方设置有平台导膜装置，平台导膜装置包括平行走向的第一平台导膜棍组和第二平台导膜棍...
    2026-03-26
  • 定影装置及图像形成装置
    定影装置及图像形成装置_东芝泰格有限公司_202111215403.4
    本发明涉及定影装置及图像形成装置。实施方式的定影装置具有：多个发热体、多个第一端子、第二端子、可动部件、导电电路、薄膜和旋转体。发热体在主扫描方向上排列并发热。第一端子与所述发热体电连接。第二端子与向所述发热体供给电力的电源电连接。导电电路...
    2026-03-26
  • 一种变距强磁力调节系统及赤泥磁选分离装置
    一种变距强磁力调节系统及赤泥磁选分离装置_四川省川机工程技术有限公司_202310550743.5
    本发明公开了一种变距强磁力调节系统及赤泥磁选分离装置，包括：磁系；分区模块；调距模块；驱动模块；所述磁系由多列磁条组成；所述分区模块被配置为将磁系划分为多个磁区；所述调距模块被配置为调整磁区与滚筒壁之间的距离；所述驱动模块被配置为驱动调距模...
    2026-03-26
  • 一种无人一体化供水移动泵站
    一种无人一体化供水移动泵站_天津鑫淼工程技术有限公司_202610076652.6
    本发明公开了一种无人一体化供水移动泵站，涉及移动水站技术领域。包括通过将水箱分隔为三个腔室，搭配中转台模块的连通阀机构与中置水板设计，实现了多腔室分别向对应输出端供水或集中向任意单一输出端供水的灵活切换，既满足消防灭火等场景下多介质的分区存...
    2026-03-26
  • 一种电动幕布
    一种电动幕布_东莞市澳星视听器材有限公司_202520885076.0
    本实用新型公开了一种电动幕布，包括机壳组件，所述机壳组件包括壳体，壳体的两端均固定连接有安装座，安装座的一侧外壁上卡接固定有端盖，安装座另一侧外壁上固定连接有支架，且支架固定连接于壳体内，壳体内设置有收卷辊，且收卷辊的两端分别转动连接于两个...
    2026-03-26
  • 一种高均匀性石英玻璃锭的熔制设备
    一种高均匀性石英玻璃锭的熔制设备_潜江菲利华石英玻璃材料有限公司_202511985805.0
    本发明公开了一种高均匀性石英玻璃锭的熔制设备，包括炉体、保温层和炉膛，炉膛上端连接有炉盖和氢氧燃烧器，炉膛设有延伸至保温层的若干个排烟口，保温层设有与排烟口连通的上端连接有烟囱和第一风机的环形烟道，炉膛下方依次设有成型保温腔和冷却腔，炉膛下...
    2026-03-26
  • 用于频域不平衡校正的相干带宽信令
    用于频域不平衡校正的相干带宽信令_高通股份有限公司_202480051704.3
    描述了用于进行无线通信的方法、系统和设备。用户装备(UE)可以发送能力消息，该能力消息指示UE估计网络实体的发送链的同相部分与网络实体的发送链的正交相位部分之间的频域不平衡的能力。UE可以基于该能力消息来接收对与频域不平衡相关联的相干带宽的...
    2026-03-26
  • 光源装置和激光投影设备
    光源装置和激光投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202480050217.5
    一种光源装置和激光投影设备。光源装置(01)包括激光光源(100)、荧光转换部(200)和滤光部(300)。荧光转换部(200)包括沿圆周方向设置的多个第一区域(200a)，滤光部(300)包括沿圆周方向设置的多个第二区域(300a)。滤光...
    2026-03-26
  • 一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置
    一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置_大连理工大学_202511820383.1
    本发明公开了一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置，包括旋涂主体、同步罩组件和边缘处理模块。本发明提出同步罩高度随主轴工况联动的高度调节机制，显著降低由外部扰动与边界层不稳引起的径向膜厚梯度，实现展液阶段快速铺展与稳态甩膜时的均...
    2026-03-26
  • 一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质
    一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质_中国科学院微电子研究所_202411315589.4
    本申请提供一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质，包括：获取等离子体光刻成像的成像结构的轴向方向，成像结构包括呈一维周期性变化的多个掩模图形，光线以和轴向方向呈预设的离轴角度的目标方向照射呈一维周期性变化的多个掩模图形，获得呈一维周...
    2026-03-26
  • 一种多波段大视场反射式投影光刻系统
    一种多波段大视场反射式投影光刻系统_河南百合特种光学研究院有限公司_202511763507.7
    本发明涉及光学系统技术领域，公开了一种多波段大视场反射式投影光刻系统，包括照明组件和位于照明组件侧方的物镜组件，光束依次经过照明组件、物镜组件后入射到基板的光胶上；照明组件包括沿光束传播方向依次设置的第一照明透镜、第二照明透镜、光棒、第三照...
    2026-03-26
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