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最新专利技术
  • 一种新能源汽车电池盒及表面处理方法
    一种新能源汽车电池盒及表面处理方法_广西柳州市龙发金属表面处理技术股份有限公司_202511632086.4
    本发明属于表面处理技术领域，具体为一种新能源汽车电池盒及表面处理方法，通过引入氧化石墨烯过渡层、非晶态镍磷合金镀层、等离子体处理技术以及纳米级陶瓷颗粒增强的有机硅涂层，显著提升了电池盒在复杂工况下的综合性能。同时，配套的设备装置和质量控制方...
    2026-04-14
  • 一种金刚石铜液冷盖板及其制备方法
    一种金刚石铜液冷盖板及其制备方法_中京烽火(北京)科技有限公司_202511684512.9
    本发明涉及导热技术领域，特别涉及一种金刚石铜液冷盖板及其制备方法。本发明实施例提供一种金刚石铜液冷盖板的制备方法，包括：在金刚石铜基板上磁控溅射钛层；在磁控溅射得到的钛层上磁控溅射银层；通过烧结工艺，将磁控溅射得到的银层和具有微流道的铜基散...
    2026-04-14
  • 一种立式磁控溅射镀膜方法
    一种立式磁控溅射镀膜方法_深圳市智创谷技术有限公司_202511693010.2
    本发明公开了一种立式磁控溅射镀膜方法，涉及磁控溅射镀膜技术领域，包括以下步骤：步骤S1、工件预处理与立式布置：对工件依次进行乙醇超声清洗、去离子水冲洗、干燥处理；步骤S2、溅射环境预处理：对装有工件的镀膜腔室抽真空至基础真空度，向镀膜腔室内...
    2026-04-14
  • 一种镀膜均匀且靶材利用率高的磁控溅射镀膜方法
    一种镀膜均匀且靶材利用率高的磁控溅射镀膜方法_深圳市智创谷技术有限公司_202511693020.6
    本发明公开了一种镀膜均匀且靶材利用率高的磁控溅射镀膜方法，属于薄膜制备技术领域，该方法通过“预处理‑溅射‑沉积‑后处理”全流程协同优化实现高精度镀膜：基板预处理采用氩气+氢气双气源梯度活化，搭配射频脉冲聚焦轰击对基板进行清理；靶材溅射用含温...
    2026-04-14
  • 用于氢能安全传感薄膜制备的多环磁控溅射靶结构
    用于氢能安全传感薄膜制备的多环磁控溅射靶结构_新疆大学_202511709119.0
    本发明公开了一种用于氢能安全传感薄膜制备的多环磁控溅射靶结构，包括圆盘状极靴，极靴上方同轴设有双环环状外磁轭，外磁轭与极靴之间均匀分布若干外磁铁；极靴中心设有内磁铁，其上方设有内磁轭。本发明针对氢气传感薄膜在制备过程中膜层厚度不均、灵敏度不...
    2026-04-14
  • 一种用于高寒铁路的耐低温冲击高强度螺栓及其热处理方法
    一种用于高寒铁路的耐低温冲击高强度螺栓及其热处理方法_四川东博轨道科技有限公司_202511867021.8
    本发明公开一种用于高寒铁路的耐低温冲击高强度螺栓及其热处理方法，螺栓具有基体‑仿生纳米叠层‑高熵合金渗氮层的特殊三层结构：基体晶粒度达ASTM8级以上；仿生纳米叠层由TiN和VC交替沉积构成，单层厚度小于50nm；高熵合金渗氮层材料为AlC...
    2026-04-14
  • 顶升装置及磁控溅射镀膜设备
    顶升装置及磁控溅射镀膜设备_深圳市捷佳芯创科技有限责任公司_202511957555.X
    本发明提供了顶升装置及磁控溅射镀膜设备，涉及磁控溅射镀膜技术领域，顶升装置包括顶升动力件、顶升轴以及顶盖；顶升轴安装于顶升动力件的输出端，顶升轴的内部设有冷却腔，冷却腔连通输入接头和输出接头；顶盖安装于顶升轴伸入腔室的一端，顶升动力件通过顶...
    2026-04-14
  • 一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法
    一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法_安徽越好电子装备有限公司_202610001170.4
    本发明涉及种子层溅镀技术领域，尤其是涉及一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法，一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置包括：用于承载基板的旋转式基座；多靶溅镀组件，所述多靶溅镀组件包括：设置于所述旋转式基座上方的中心靶，环...
    2026-04-14
  • 一种圣诞球真空镀膜设备
    一种圣诞球真空镀膜设备_金华市盈利工艺品有限公司_202310819602.9
    本发明属于真空镀膜技术领域，具体的说是一种圣诞球真空镀膜设备，包括底座，所述底座上安装有外壳，所述外壳内部安装有固定架；所述外壳内安装有放置板，所述放置板上安装有连接杆，所述连接杆上安装有安装板与顶板，所述安装板与顶板之间安装有立柱，所述立...
    2026-04-14
  • 一种用于真空解理镀膜设备的片托
    一种用于真空解理镀膜设备的片托_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511584800.7
    本发明公开了一种用于真空解理镀膜设备的片托，包括底座，所述底座上设有第一凸台、第二凸台、导向组件、夹紧件和巴条固定槽，所述第一凸台和第二凸台沿横向间隔布置在底座上，芯片搭接在所述第一凸台和所述第二凸台上，所述导向组件用于对芯片进行限位，所述...
    2026-04-14
  • 真空样品架、真空样品架驱动系统以及真空处理系统
    真空样品架、真空样品架驱动系统以及真空处理系统_费勉仪器科技(上海)有限公司_202511622091.7
    本公开涉及真空设备技术领域，特别涉及一种真空样品架、真空样品架驱动系统以及真空处理系统。真空样品架包括载样架和旋转传动组件。载样架用于承载样品。旋转传动组件包括锥齿轮组、旋转传动轴以及直齿轮组。锥齿轮组，用于接收旋转驱动并改变旋转方向。旋转...
    2026-04-14
  • 一种适用于超高真空环境的自动夹持翻转装置
    一种适用于超高真空环境的自动夹持翻转装置_湖南烁科晶磊半导体科技有限公司_202511743445.3
    本发明公开了一种适用于超高真空环境的自动夹持翻转装置，包括：夹持组件、角度调节组件、翻转驱动机构和夹持驱动机构；所述角度调节组件与超高真空腔室密封连接，所述翻转驱动机构分别与角度调节组件和夹持驱动机构连接，且翻转驱动机构与夹持驱动机构采用同...
    2026-04-14
  • 真空镀膜机旋转载物支架
    真空镀膜机旋转载物支架_嘉兴晶控电子有限公司_202511772959.1
    本发明公开了真空镀膜机旋转载物支架，包括：旋转支架，旋转支架上呈圆形阵列安装有若干基材夹具支撑环位于主旋转支架下方用于支撑主旋转支架；基材夹具，用于夹装基材；翻转机构，翻转机构用于带动基材夹具翻转；本发明的镀膜机腔室内部为纯机械式的自动翻转...
    2026-04-14
  • 用于真空镀膜的夹具
    用于真空镀膜的夹具_安徽纯源镀膜科技有限公司_202511949922.1
    本发明涉及一种用于真空镀膜的夹具，包括夹具本体，夹具本体上沿其周向间隔设置有用于对基片进行夹装的各夹装部，夹装部活动安装在夹具本体上，夹具本体上还设置有调节机构，调节机构用于调节各夹装部绕竖直方向进行自转。上述方案中，通过设置调节机构调整各...
    2026-04-14
  • 一种靶材与磁铁间距监控系统和方法及物理气相沉积设备
    一种靶材与磁铁间距监控系统和方法及物理气相沉积设备_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202410983449.8
    本发明公开了一种靶材与磁铁间距监控系统和方法及物理气相沉积设备，包括：测量模块，设于第一基准面上，用于测量绕转轴旋转的磁铁与所述第一基准面之间的第一间距；所述磁铁远离所述测量模块的一侧的第二基准面上设有靶材，所述第二基准面与所述第一基准面平...
    2026-04-14
  • 一种基于恒功率温度调控的蒸镀方法和装置
    一种基于恒功率温度调控的蒸镀方法和装置_安徽其芒光电科技有限公司_202511491654.3
    本发明提供一种基于恒功率温度调控的蒸镀方法和装置，通过采用恒功率加热与冷却水调节相结合的智能补偿策略，有效克服了蒸镀过程中因材料汽化吸热和蒸发源辐射热引起的热扰动，实现了基片温度的高精度控制，显著优于传统PID控制方法。该方法有效避免了温度...
    2026-04-14
  • 密封结构及真空镀膜设备
    密封结构及真空镀膜设备_深圳市矩阵多元科技有限公司_202511449948.X
    本发明公开了一种密封结构及真空镀膜设备，密封结构包括密封仓和密封门。密封仓具有第一开口，密封仓限定出容纳空间，容纳空间适于容纳目标介质。密封门连接密封仓，且密封门密封第一开口。密封门包括第一门板、第二门板和连接件，沿第一开口的轴线方向，第一...
    2026-04-14
  • 一种引入偏压、防真空电离的全方位镀膜工装
    一种引入偏压、防真空电离的全方位镀膜工装_中国科学院兰州化学物理研究所_202511535347.0
    本发明公开了一种引入偏压、防真空电离的全方位镀膜工装，属于真空镀膜技术领域。该工装主要由轨道、行走机构、行星工件盘组件、偏压接线与引入机构等构成，其核心在于能够在大气状态下将偏压电源输出的偏压，安全施加到与接地真空腔室完全隔离的待镀样品上。...
    2026-04-14
  • 一种不锈钢管内壁镀膜装置及镀膜方法
    一种不锈钢管内壁镀膜装置及镀膜方法_中国科学院兰州化学物理研究所_202511535374.8
    本发明公开了一种不锈钢管内壁镀膜装置及镀膜方法，涉及管体镀膜技术领域。该装置包括支架、真空筒、抽气机构、加热机构、上密封板、可升降的下密封板、上固定卡盘、真空法兰电极、多个可接电进气管及安装机构。所述安装机构包含可依据不锈钢管外径选配的上安...
    2026-04-14
  • PECVD设备
    PECVD设备_江苏博涛智能热工股份有限公司_202512003105.3
    本发明公开了一种PECVD设备，包括壳体、气源、上极板、下极板和掩膜板，所述壳体内部形成有反应腔，所述气源连接至壳体并向所述反应腔输送工艺气体，所述上极板设置于所述反应腔内，用于连接射频源，所述下极板设置于所述反应腔内，用于接地并支撑待反应...
    2026-04-14
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