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一种(TiAlCrZrTa)Nx高熵合金薄膜及其制备方法
本发明属于涂层材料技术领域,具体涉及一种(TiAlCrZrTa)Nx高熵合金薄膜及其制备方法,以该高熵合金薄膜的总原子数为基准,其合金元素组成包括:Ti的原子百分数为10‑20%,Al的原子百分数为10‑20%,Cr的原子百分数为10‑20...
球形滚珠镀膜机构及球形滚珠镀膜装置
本发明提供了一种球形滚珠镀膜机构及球形滚珠镀膜装置,镀膜机构包括转动件、导向结构以及用于放置滚珠的托盘组件,所述托盘组件具有供所述滚珠滚动的滚动面,所述转动件与所述托盘组件活动连接,驱动所述托盘组件绕第一方向转动,所述托盘组件由所述导向结构...
单晶镍薄膜、制备方法及其应用
本申请公开了单晶镍薄膜、制备方法及其应用,涉及纳米材料加工技术领域,单晶镍薄膜的制备方法包括:在衬底上沉积镍薄膜;在镍薄膜的至少部分外周侧形成与镍薄膜连接的施力部,获得待分离对象;施力部由柔性聚合物材料形成;以施力部作为剥离作用区域,将待分...
一种刀具表面高性能复合氮化物涂层的沉积系统
本发明涉及刀具生产技术领域,且公开了一种刀具表面高性能复合氮化物涂层的沉积系统,解决了刀具表面高性能复合氮化物涂层的沉积装置在使用的过程中,在进行安装调试时,无法根据实际需要进行高度调节的问题,其包括安装底座,安装底座为工字型结构,安装底座...
一种锰掺杂铁酸铋薄膜体系材料的制备方法
本发明公开一种锰掺杂铁酸铋薄膜体系材料的制备方法,薄膜材料为BiFe1‑xMnxO3(其中x=0.05‑0.30),本发明采用溶胶‑凝胶法,以硝酸锰、五水硝酸铋和九水硝酸铁为原料,柠檬酸为螯合剂,经溶解、陈化、干燥形成干凝胶;随后将干凝胶研...
一种用于高硬材料铣削加工的硬质合金涂层刀片及其制备方法
本发明属于硬质合金涂层刀具技术领域,具体涉及一种用于高硬材料铣削加工的硬质合金涂层刀片及其制备方法。所述用于高硬材料铣削加工的硬质合金涂层刀片的制备方法,包括配料湿磨、干燥制粒、压制成型、烧结及沉积涂层。本发明采用电弧离子镀技术,通过AlT...
一种塑钢复合结构件表面镀膜设备及处理工艺
本发明公开了一种塑钢复合结构件表面镀膜设备及处理工艺。涉及镀膜处理技术领域,该设备包括架体、反应装置、真空装置、压差调整装置、至少一组进气装置以及控制系统。压差调整装置设有调节筒和可移动的调节活塞,用于在反应气体注入过程中通过改变调节筒的有...
一种高致密性金属钍靶材的制备方法
本发明涉及金属靶材制备技术领域,公开了一种高致密性金属钍靶材的制备方法,包括以下步骤:取金属钍粉末研磨细化后进行两次筛网过筛,得到金属钍细粉;将金属钍细粉转移至模具中静压成型,脱模后得到金属钍素胚;将金属钍素胚置于两个惰性材料垫片之间并置于...
一种金属钍靶材的制备方法
本发明涉及金属靶材制备技术领域,公开了一种金属钍靶材的制备方法,包括以下步骤:取金属钍粉末放入模具中进行静压成型,得到金属钍素胚;取多个金属钍素胚,分别在各个金属钍素胚表面涂敷惰性粉末,将多个金属钍素胚一同置于内部平铺有惰性粉末的烧结容器中...
一种圆柱金属钍靶材的制备方法
本发明涉及金属靶材制备技术领域,公开了一种圆柱金属钍靶材的制备方法,包括以下步骤:取金属钍粉末放入圆柱模具中进行静压成型,脱模后得到金属钍素胚;取多个所述金属钍素胚堆叠于圆柱坩埚内并置于熔炼设备中,抽真空至负压状态后升温进行熔炼,待金属钍素...
一种提高镀膜均匀性的进气系统及使用方法
本发明公开了一种提高镀膜均匀性的进气系统,其属于半导体设备技术领域,所述进气系统包括晶圆放置平台、转接件和屏蔽件,所述晶圆放置平台设置在反应腔室内,所述转接件设置在反应腔室的内侧壁,所述屏蔽件设置在转接件和晶圆放置平台之间,所述转接件内设有...
一种阀芯表面抗冲击耐磨高韧润滑梯度涂层及其制备方法
本发明公开了一种阀芯表面抗冲击耐磨高韧润滑梯度涂层及其制备方法,涉及阀芯表面处理技术领域,其中,包括依次层叠于阀芯基体表面的支撑层、过渡层和功能层;所述支撑层为金属基复合涂层,所述过渡层为金属铬与碳化铬构成的成分梯度涂层,所述功能层为类金刚...
一种低功率等离子体条件下制备金属底电极的方法
本发明属于微电子器件制造技术领域,公开了一种低功率等离子体条件下制备金属底电极的方法,其包括如下步骤:采用磁控溅射技术,在清洗、吹干的衬底上沉积氮化铝薄膜以形成一定厚度的种子层,然后在形成的种子层上沉积选定的金属底电极材料至预定厚度,最终制...
一种阻氢复合涂层的制备方法
一种阻氢复合涂层的制备方法,包括以下步骤:步骤S11,在预处理后的基体表面沉积金属钛过渡层;步骤S12,采用钛靶和碳靶共溅射方式,在金属钛过渡层的表面沉积钛碳梯度层;步骤S13,关闭钛靶,通过碳靶在钛碳梯度层的表面沉积类金刚石层;步骤S14...
一种增强太赫兹发射的氧化铟锡薄膜及其制备方法
本发明提供了一种增强太赫兹发射的氧化铟锡薄膜及其制备方法,属于非线性光学及太赫兹技术领域。该方法采用磁控溅射工艺在基底上沉积氧化铟锡(ITO)薄膜;将薄膜置于真空环境中进行快速热退火处理。本发明的核心在于通过精确控制退火时间及退火温度,调控...
一种高透光光学镀膜材料及其制备方法
本发明涉及光学镀膜材料技术领域,具体为一种高透光光学镀膜材料及其制备方法。本发明克服了现有光学镀膜材料透光性低和附着力差的技术问题。本发明对光学基材进行离子清洗及HMDS原位等离子体接枝;利用高功率脉冲磁控溅射沉积ZrO2掺杂Nb2O5应力...
在工程结构表面沉积多层DLC膜层的方法及半导体设备
本发明提供了一种在工程结构表面沉积多层DLC膜层的方法及半导体设备,涉及半导体技术领域。形成的粗化表面有助于消除DLC膜层沉积产生的界面应力,且有助于增加后续DLC膜层的沉积厚度。形成的C原子扩散分布层可增加与含C的DLC膜层的界面粘着力。...
一种应用于风力发电工件具有柔性防护结构的工作框架
本发明涉及表面处理技术领域,具体为一种应用于风力发电工件具有柔性防护结构的工作框架,包括真空镀覆装置,所述真空镀覆装置内部的顶部和底部均栓接有固定框架,两个固定框架相对的一侧之间转动连接有工作结构框架;所述工作结构框架包括两个支板,两个支板...
一种用于在回转体类零件表面涂镀类金刚石膜层的装置
本发明公开了一种用于在回转体类零件表面涂镀类金刚石膜层的装置,属于涂层技术领域。该装置包括转动设置的主撑杆和固定的侧撑杆。主撑杆上安装有若干三维旋转部件,每个部件包括旋转架和环绕分布的零件筒。侧撑杆上设有与三维旋转部件一一对应的拨片机构。通...
一种能够匹配不同光学镜头的夹持固定工装
本发明公开了一种能够匹配不同光学镜头的夹持固定工装,其包括横向固定设置有多个导向件的支撑导向组件、分别活动环绕设置在支撑导向组件上的多个夹持组件以及环绕设置在多个夹持组件上的复位件;夹持组件包括导向块,其滑动连接在对应的导向件上;固定连接在...
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