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  • 本发明提供一种空芯光纤气体渗透装置及抗气体入侵方法, 装置包括气体腔, 包括腔体和腔壁, 腔体用于放置空芯光纤, 腔壁设有与外界气路连接的密封接头;高压气源, 用于与密封接头连接, 为腔体提供渗透气体;渗透气体的类型通过空芯光纤的外包层材料...
  • 本发明涉及导电玻璃技术领域, 具体是一种高透ITO导电玻璃及其制备方法, 先将玻璃基底清洗干净后, 利用磁控溅射技术在玻璃基底的表面溅射第一SiO2薄膜, 再在第一SiO2薄膜的表面溅射ITO薄膜, 之后在ITO薄膜的表面依次溅射第二SiO...
  • 本发明适用于滤波片技术领域, 尤其涉及一种线性渐变滤波片的制作方法及线性渐变滤波片。线性渐变滤波片的制作方法包括以下步骤:以玻璃晶圆作为基底, 在玻璃晶圆的表面镀下反射层;其中, 下反射层由多层低折射率材料和多层高折射率材料交替堆叠而成;通...
  • 本发明涉及一种增透玻璃及其制备方法和应用, 所述增透玻璃包括玻璃基底、沉积于所述玻璃基底上的缓冲层和沉积于所述缓冲层上的增透膜层;所述缓冲层为具有孔洞结构的无机化合物薄膜层。本发明的增透玻璃包括缓冲层, 其具有孔洞结构, 可以缓冲玻璃基底受...
  • 本申请公开了一种抗PID光伏玻璃的制备。在执行本申请实施例提供的方法时, 首先可以对待处理的光伏玻璃的内表面进行预处理得到预处理玻璃, 并将一维碳链分子溶解到极性溶剂中, 形成均匀稳定的一维碳链分子溶液。然后将一维碳链分子溶液涂敷在所述预处...
  • 本发明公开了一种在溶液中可控制备氧化铜微纳米结构的方法, 属于半导体材料微纳米结构制备技术领域, 该方法为:首先配置硫酸铜与聚乙烯亚胺的络合溶液。随后将表面沉积了金膜的玻璃样品放入上述的络合溶液中。然后将连续波激光聚焦照射到玻璃样品的上表面...
  • 本发明提供一种涂层石英坩埚及其制备方法, 所述石英坩埚内壁涂覆有氮化硅涂层和氮化硼;所述氮化硅涂层中, 以纳米二氧化硅的质量计, 氮化硅与氮化硼和硅溶胶的质量比为3 : 1.5 : 1~3 : 2.5 : 1。该涂层石英坩埚通过在石英坩埚内...
  • 本申请公开了一种保护玻璃、隔离剂及其应用、显示设备, 所述保护玻璃包括玻璃本体和设置在所述玻璃本体的至少一个表面上的隔离膜层, 所述隔离膜层能够抑制钠钙玻璃的析碱反应, 尤其是玻璃背面的析碱反应, 且能够消除玻璃背面的表面能差异, 以使整个...
  • 本申请公开一种玻璃基板的制备方法以及显示屏, 涉及显示设备技术领域, 其中, 显示屏玻璃基板的制备方法包括如下步骤:切割步骤:将玻璃原材料切割形成指定规格尺寸的玻璃基板, 其中, 所述玻璃基板具有入光面、与所述入光面相背的出光面以及位于所述...
  • 本发明公开了一种基于煤基固废的渐变多孔玻璃材料及其制备方法和应用, 基于煤基固废的渐变多孔玻璃材料的制备方法包括:将初始玻璃平板和功能氧化物平板于贴合并压紧, 于600~900℃下热处理1~100小时, 将初始玻璃平板和功能氧化物平板分离,...
  • 本发明属于微电子封装玻璃基板加工领域, 涉及多掺杂复杂成分的非晶网络玻璃基板上通孔刻蚀用的刻蚀剂及通孔刻蚀工艺, 刻蚀剂包括22%‑34%碱性刻蚀剂、0%‑30.3%金属络合控制剂、21.3%‑28.5%界面活化能调节剂、水;碱性刻蚀剂包括...
  • 本发明公开了一种AG玻璃的制备方法, 将无水膜覆盖的玻璃原片经预处理液处理后通过AG玻璃蚀刻液, 然后进行化学抛光, 制备得到AG玻璃;所述AG玻璃蚀刻液按照重量份计, 包括以下组分:35‑45份NH4HF2、5‑10份NH4F、8‑12份...
  • 本发明涉及TGV改性玻璃以及工艺技术领域, 特别是涉及一种激光盲孔减薄工艺及TGV改性玻璃, 公开了一种激光盲孔减薄工艺包括:S100.获取阳极玻璃和封装层封装好的发光介质的阳极玻璃的屏体半成品玻璃;S200.对阳极玻璃底部进行TGV诱导区...
  • 本发明公开了一种低熔点玻璃粉、玻璃料及其应用, 所述低熔点玻璃粉, 以摩尔百分比计, 包含V2O5 10~60%、TeO2 10~50%、ZnO 10~40%、B2O3 5~30%、SiO2 0~10%、CuO 0.1~20%;制备方法如下...
  • 一种利用微波‑电联合加热制备高耐蚀矿渣微晶玻璃及其制备方法, 包括质量百分比为30‑60%的铁尾矿、30‑50%的冶金熔渣和15‑30%的粉煤灰。取一定质量百分比的铁尾矿、冶金熔渣、粉煤灰, 混合均匀;将处理好后的原料置于马弗炉中进行熔融退...
  • 本发明属于无机陶瓷涂层技术领域, 具体涉及一种耐热不粘釉料及其制备方法。按质量份, 所述釉料包括钾长石10‑30份、方解石3‑8份、碳酸锂8‑18份、煅烧滑石12‑25份、生铝粉6‑15份、低膨胀熔剂(硅酸锆/β‑锂霞石)15‑30份、粘土...
  • 本发明属于光电玻璃材料, 涉及宽光谱响应的光电玻璃材料及其制备方法和应用。以质量百分比计, 由以下原料制成:50‑63%的二氧化硅、0.1‑3%的五水硝酸铋、8‑15%的碳酸钠、1‑3%的碳酸钾、1‑6%的硼酸、8‑15%的氢氧化铝、2‑4...
  • 本发明涉及一种具有耐水性的磷基易熔玻璃及其制备方法和应用, 涉及新材料技术领域。该磷基易熔玻璃通过对玻璃网络结构的创新设计和组分优化, 解决了传统磷基玻璃耐水性差的问题, 并且在提升耐水性的同时, 实现了低熔点、良好的加工性能, 为无铅的磷...
  • 本申请提供一种ZIFs玻璃、改性锂离子电池正极材料及制备方法, 该ZIFs玻璃以咪唑和苯并咪唑为有机配体, 与过渡金属可溶性盐按照特定的摩尔比和反应温度通过溶剂热合成法制备得到ZIFs晶体, 然后通过熔融淬冷法制得ZIFs玻璃。该改性锂离子...
  • 本发明提供相对部分色散PC, t高、且相对部分色散Pg, F低的光学玻璃。该光学玻璃中, 以质量基准计, SiO2含量为25.00%~56.00%, B2O3含量为16.50%~50.00%, Na2O含量超过2.00%且为20.00%以下...
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