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  • 本申请公开了一种窖池封窖方法及制酒方法,涉及制酒的技术领域;所述窖池封窖方法包括以下步骤:将填入窖池的糟醅划分为第一分区糟醅和第二分区糟醅,第一分区糟醅环绕第二分区糟醅,对第一分区糟醅进行压实处理以使第一分区糟醅下降预定高度;对第一分区糟醅...
  • 本发明涉及日用化工清洁产品技术领域,具体提供了一种含活性氧的洗衣机槽清洁片及其制备方法、应用,含活性氧的洗衣机槽清洁片包括:清洁片主体和至少包覆在清洁片主体部分表面的包衣层,包衣层包括:羟丙基甲基纤维素、抗菌剂和抗氧剂;清洁片主体包括:主体...
  • 本发明属于日化用品领域,具体涉及一种无硫酸盐可塑形肥皂及其制备方法,无硫酸盐可塑形肥皂包括如下质量百分比的组分:合成氟金云母或高岭土10‑30%,月桂醇磺基琥珀酸酯二钠5‑20%,椰油基葡糖苷5‑20%,淀粉20‑50%,甘油10‑25%,...
  • 本发明的课题在于提供一种有机物残渣的去除性能的经时稳定性优异且对金属层的耐腐蚀性也优异的半导体器件用清洗剂组合物。本发明的清洗剂组合物是半导体器件用清洗剂组合物,其包含:选自羟胺及羟胺盐中的一种以上的羟胺化合物;选自除聚氨基羧酸以外的羧酸系...
  • 本发明的课题在于提供一种有机物残渣的去除性能的经时稳定性优异且对金属层的耐腐蚀性也优异的半导体器件用清洗剂组合物。本发明的清洗剂组合物是半导体器件用清洗剂组合物,其包含:选自羟胺及羟胺盐中的一种以上的羟胺化合物;选自除聚氨基羧酸以外的羧酸系...
  • 本发明的课题在于提供一种有机物残渣的去除性能的经时稳定性优异且对金属层的耐腐蚀性也优异的半导体器件用清洗剂组合物。本发明的清洗剂组合物是半导体器件用清洗剂组合物,其包含:选自羟胺及羟胺盐中的一种以上的羟胺化合物;选自除聚氨基羧酸以外的羧酸系...
  • 本发明的课题在于提供一种有机物残渣的去除性能的经时稳定性优异且对金属层的耐腐蚀性也优异的半导体器件用清洗剂组合物。本发明的清洗剂组合物是半导体器件用清洗剂组合物,其包含:选自羟胺及羟胺盐中的一种以上的羟胺化合物;选自除聚氨基羧酸以外的羧酸系...
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,具体为一种羟胺基清洗液及其在半导体铝互连制程中的应用,一种羟胺基清洗液,按重量百分比计包含:成分a:5‑30%,水;成分b:0.01‑30%,羟胺及羟胺盐;成分c:0.1‑70%,碱性有机化合物;成分d:1‑2...
  • 本发明公开了一种用于油污清洁的复合材料及其制备方法及应用,其中,一种用于油污清洁的复合材料的制备方法,包括:P123溶液的获取:将P123与无水乙醇混合搅拌,加入硝酸搅拌处理获得P123溶液;混合溶液的制备:将分子筛与P123溶液搅拌混匀,...
  • 本发明涉及玻璃清洗剂技术领域,具体涉及一种环保型盖板玻璃清洗剂及其制备方法,该环保型盖板玻璃清洗剂包括如下重量百分比的原料:无机碱12%‑20%、表面活性剂8%‑12%、螯合剂5%‑8%、保湿剂3%‑5%、吸附剂1%‑3%、分散剂1%‑3%...
  • 本发明提供一种强力重油污清洗剂及其制作方法,属于清洗剂技术领域;由以下质量百分比的组分组成:水70‑90%、谷氨酸二乙酸四钠0.2‑1.0%、椰子烷基季胺乙氧基化物0.2‑1.0%、C9‑11脂肪醇聚氧乙烯醚1.0‑3.0%、脂肪醚非离子表...
  • 本申请涉及化工设备清洗技术领域,特别涉及一种聚丙烯酰胺乳液反应釜清洗剂及其制备方法和应用。按照质量份数,所述聚丙烯酰胺乳液反应釜清洗剂包括10~20份改性丙烯酸,8~15份表面活性剂,5~10份缓冲液,3~8份溶剂,50~70份水;其中改性...
  • 本发明涉及洗涤剂技术领域,具体为一种含茶皂素抗菌洗涤剂及其制备方法。本发明将去离子水、茶皂素、十二烷基苯磺酸、香草醛、瓜尔胶、甘油、香薰精油、沸石载银抗菌剂、氢氧化钠混合造粒,得到含茶皂素抗菌洗涤剂粉体;以氧化淀粉‑明胶复合凝胶溶液为胶囊内...
  • 本发明提供了一种PEG400复合体系及可软化去除固化酚醛树脂的方法,以质量分数计,包括以下组分:65~75%的PEG400、8~12%的月桂醇聚氧乙烯醚、5~8%的羟基磷灰石纳米棒、2~3%的pH缓冲体系和5~12%的相变温控剂。本发明通过...
  • 本发明公开了一种化学发光清洗液,属于化学发光免疫分析技术领域。本发明的化学发光清洗液,包括以下组分:缓冲液、盐、表面活性剂、防腐剂和消泡剂;其中,表面活性剂包括Tween 20和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺。本发明通过在化学发光清洗液中加入防腐剂...
  • 本申请涉及洗涤剂技术领域,尤其是涉及一种除垢型的洗碗机用餐具洗涤剂及其制备方法,其包括乙二胺四乙酸二钠、氢氧化钠、柠檬酸钠、聚丙烯酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO‑3等非纤维状组分。本发明通过优化配方设计,克服碱垢和水垢残留问题,不含磷酸盐且具...
  • 本发明提供一种硅片清洗液,所述清洗液的组分和质量百分比如下:2‑8%的氢氧化钾、5‑15%的螯合剂、1‑5%的醚类稳定剂、5‑10%的表面活性剂和余量水;所述的表面活性剂包括缓蚀型表面活性剂和清洁型表面活性剂,所述清洁型表面活性剂与缓蚀型表...
  • 本发明公开了一种用于智能机器的缓释型清洁剂,其原料组成包括,wt%:磺酸盐表面活性剂20‑50%、粘合剂5‑35%、有机杀菌剂5‑25%、无机杀菌剂1‑5%、除味剂1‑5%、稳定剂1‑5%、香精0.1‑1%及去离子水余量。本发明通过复配有机...
  • 本发明公开了一种用于甘油二酯的酶法生产工艺,涉及生物酶催化技术领域。该工艺采用双酶组合催化系统:固定化脂肪酶A为氧化铜纳米酶复合体,载体为经APTES氨基化处理的多孔二氧化硅;固定化脂肪酶B为介孔硅材料固定化的毛霉脂肪酶。反应体系添加含叔胺...
  • 本申请涉及有机废弃物资源化利用技术领域,公开了利用易腐垃圾联产乳酸和粗油脂的方法,包括以下步骤:步骤a、将易腐垃圾制备成浆料;步骤b、将所述浆料送入电化学反应器中进行电化学处理;步骤c、对其中生成的所述脂肪酸盐进行酸化处理,以回收粗油脂;步...
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