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最新专利技术
  • PI控制器分离参数整定方法及装置
    PI控制器分离参数整定方法及装置_国家能源集团科学技术研究院有限公司_202511186043.8
    本发明公开了一种PI控制器分离参数整定方法及装置，该方法基于相位裕度法，适用于自衡对象，包括纯延迟环节、高阶惯性环节和带滞后的一阶惯性环节。其核心创新在于：该方法中PI控制器参数只与被控对象稳态增益相关，只与时间尺度(时间常数T和延迟时间)...
    2026-04-05
  • 一种用于离网制氢系统的电解槽功率前馈控制方法
    一种用于离网制氢系统的电解槽功率前馈控制方法_安徽华赛能源科技股份有限公司_202511161457.5
    本发明公开了一种用于离网制氢系统的电解槽功率前馈控制方法，包括：通过压力传感器阵列采集高频压力数据，基于高频压力数据，分析并生成流‑电耦合物理信息；利用流‑电耦合物理信息和高频压力数据，对局部压力场进行时空演化预测，生成预测的局部压力场演化...
    2026-04-05
  • 污水处理厂设备完好率统计装置和污水处理系统
    污水处理厂设备完好率统计装置和污水处理系统_中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司_202511613659.9
    本发明提供了一种污水处理厂设备完好率统计装置和污水处理系统，涉及污水处理技术领域。装置包括：信号接收模块，用于接收控制柜的工作信号，并将工作信号传输至时长统计模块；时长统计模块，用于基于工作信号确定并存储对应设备的状态时长；数据处理模块，用...
    2026-04-05
  • 包括配备指示计时机构操作状态的装置的计时机构的时计
    包括配备指示计时机构操作状态的装置的计时机构的时计_奥米加股份有限公司_202510347069.X
    本发明的一个方面涉及包括容纳在表壳中的钟表机芯(100)的时计(1)，钟表机芯包括专用于时间分割的走时轮系(5)和包括计时轮系(230)的计时机构(200)，计时轮系配置为经由计时启动/停止控制装置(210)按需耦合至走时轮系，计时机构包括...
    2026-04-05
  • 一种基于铷钟和恒温晶振的高精度时统设备
    一种基于铷钟和恒温晶振的高精度时统设备_深圳市远东华强导航定位有限公司_202511181836.0
    本发明提出了一种基于铷钟和恒温晶振的高精度时统设备，属于时频同步技术领域。本发明包括安装在VPX背板上的主控卡、监控卡、时码输出分路卡、频标输出分路卡、北斗接收机卡、1553B总线接口卡、NTP和PTP授时卡；时码输出分路卡支持输出多种授时...
    2026-04-05
  • 用于钟表机芯的月相和地相显示装置
    用于钟表机芯的月相和地相显示装置_伊塔瑞士钟表制造股份有限公司_202510728905.9
    本发明涉及一种用于钟表机芯的月相和地相显示装置(100)，该显示装置包括表盘(130)，表盘(130)上布置有分别象征天体的不同连续相的多个图形化表示(112)，所述显示装置(100)还包括驱动机构(140)，驱动机构(140)被配置成移动...
    2026-04-05
  • 用于钟表机芯的月相和地相显示装置
    用于钟表机芯的月相和地相显示装置_伊塔瑞士钟表制造股份有限公司_202510728900.6
    本发明涉及一种用于钟表机芯的月相和地相显示装置(100)，该装置包括：显示器(110)，显示器(110)包括分别象征天体的不同连续相的多个图形化表示(120)；表盘(130)，表盘(130)设置有两个孔口(131)，该两个孔口(131)被布...
    2026-04-05
  • 用于钟表的擒纵机构
    用于钟表的擒纵机构_劳力士有限公司_202510717008.8
    本发明涉及一种用于钟表的擒纵机构(10)，包括：第一擒纵齿轮(12)，所述第一擒纵齿轮围绕第一旋转轴(A1)可转动地安装，并且包括配备第一齿(121)和第二齿(111)的齿轮系，第二擒纵齿轮(22)，所述第二擒纵齿轮围绕第二旋转轴(A2)可...
    2026-04-05
  • 一种处理盒
    一种处理盒_珠海纳思达信息技术有限公司_202410712193.7
    一种处理盒，包括：盒体；感光鼓；驱动接收部，用于与驱动输出部啮合以接收驱动力并传递给感光鼓；固定杆，其固定设置在盒体上，用于按压驱动输出部至摆正位置；以及安装突起，其固定设置在盒体上，用于在处理盒安装时与导轨抵接抬起处理盒，使得固定杆的端部...
    2026-04-05
  • 一种便于安装的复印机粉盒
    一种便于安装的复印机粉盒_中山市绘强电子科技有限公司_202511506820.2
    本发明涉及墨粉盒的技术领域，尤其涉及一种便于安装的复印机粉盒，限位装置包括同步齿、同步轮、转轴和锁紧组件；当粉盒滑入或滑出装配空间时，同步齿能够带动同步轮、转轴和第一摩擦盘转动，以使第一摩擦盘和第二摩擦盘能够在锁定状态和解锁状态之间切换；在...
    2026-04-05
  • 定影系统及图像形成装置
    定影系统及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411332336.8
    一种定影系统及图像形成装置，所述定影系统具备：定影装置，具有由加热构件加热并进行旋转的第1旋转体及与所述第1旋转体的外周表面接触而形成使形成有色调剂像的记录媒体通过的通过部的同时旋转的第2旋转体；及排气装置，具有以从吸入口吸入存在于所述通过...
    2026-04-05
  • 加热系统及图像形成装置
    加热系统及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411330391.3
    一种加热系统及图像形成装置，所述加热系统具备：第1旋转体，由加热构件加热并进行旋转；第2旋转体，与所述第1旋转体的外周表面接触而形成使加热对象物通过的通过部的同时旋转；冷却装置，使空气在以使其与所述第2旋转体的外周表面接触的方式通过的路径中...
    2026-04-05
  • 图像形成设备和中间转印单元
    图像形成设备和中间转印单元_佳能株式会社_202510694922.5
    一种图像形成设备，包括图像形成部分和能够可拆卸地安装到所述图像形成设备的主组件的中间转印单元。所述中间转印单元包括框架单元、清洁单元和存储器基板。所述清洁单元能够可拆卸地安装到所述框架单元。在所述清洁单元安装到所述框架单元的状态下，所述中间...
    2026-04-05
  • 一种激光打印机用硒鼓结构
    一种激光打印机用硒鼓结构_珠海市东进打印耗材有限公司_202511258875.6
    本发明公开了一种激光打印机用硒鼓结构，属于激光打印机领域，包括显影机构，所述显影机构前端设置有废粉盒，所述显影机构后端设置有碳粉盒，所述显影机构内部下方转动连接有感光鼓，本发明碳粉盒内部的搅拌叶可直接对碳粉进行机械搅拌，打破已形成的小结块；...
    2026-04-05
  • 鼓盒和处理盒
    鼓盒和处理盒_江西润宏模具有限公司_202511518472.0
    本发明涉及鼓盒，以及具有该鼓盒的处理盒，所述鼓盒包括：鼓壳体，具有支撑面；感光鼓，可旋转地设置在鼓壳体中，用于形成能够被碳粉显影的静电潜像；清洁刮刀，被所述支撑面支撑，并被固定安装在鼓壳体中，具有用于清除感光鼓表面的残留碳粉的刀片，所述清洁...
    2026-04-05
  • 片材传送装置、图像读取装置和图像形成装置
    片材传送装置、图像读取装置和图像形成装置_佳能株式会社_202510703899.1
    本公开涉及一种片材传送装置，其包括：支撑单元，所述支撑单元包括引导表面；辊单元，所述辊单元包括辊部件和支撑辊部件的辊轴；设置在支撑单元中的驱动轴；构造成连接驱动轴和辊轴的联接件；以及构造成经由驱动轴和联接件将驱动力供应到辊轴的马达。在联接件...
    2026-04-05
  • 一种离轴对准装置、离轴对准方法以及光刻设备
    一种离轴对准装置、离轴对准方法以及光刻设备_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202511334835.5
    本申请公开一种离轴对准装置、离轴对准方法以及光刻设备。所述装置包括：光源模块，用于向硅片提供第一光源信号，硅片具有粗对准标记和精对准标记，粗对准标记和精对准标记分别基于第一光源信号反馈第一反射光信号和第二反射光信号；自动对焦模块，用于在硅片...
    2026-04-05
  • 一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置
    一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置_迈睿捷(南京)半导体科技有限公司_202511495368.4
    本发明涉及半导体制造设备技术领域，解决了传统显影液喷嘴存在温度控制不足、流量均匀性差以及维护成本高缺陷的技术问题，尤其涉及一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置，包括用以隔离保温水和显影液并形成相互独立流通的流道，在保温水循环流通过程中补偿显...
    2026-04-05
  • 一种基于卷对卷的双面LDI曝光系统及曝光方法
    一种基于卷对卷的双面LDI曝光系统及曝光方法_优盛科技(苏州)有限公司_202511595036.3
    本申请公开了一种基于卷对卷的双面LDI曝光系统及曝光方法，涉及柔性电子制造技术领域，可解决现有双面激光成像设备无法补偿基材在传动过程中发生的动态形变导致对位精度下降的问题，该系统沿基材传输方向依次设有打标工位和曝光工位，打标工位设置打标装置...
    2026-04-05
  • 一种曝光方法、系统及半导体器件
    一种曝光方法、系统及半导体器件_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511545902.8
    本申请提供一种曝光方法、系统及半导体器件，涉及半导体技术领域。针对晶圆边缘区域与中心区域的晶面高度差异，本申请在执行用于消除桥接缺陷的第二曝光工艺时，将晶圆划定为多个曝光区块，并基于执行第二曝光工艺前的第一曝光工艺确定各个曝光区块合适的曝光...
    2026-04-05
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