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最新专利技术
  • 多相机模组
    多相机模组_致伸科技股份有限公司_202410432766.0
    一种多相机模组， 包括壳体以及设置在壳体内的多个相机模组及多个加热模组。各相机模组包括：镜头支持件；电路板， 设置在镜头支持件的背面， 并且具有控制元件；以及镜头模组， 部分设置在镜头支持件内， 并且具有位于镜头支持件之外的前镜片。各加热模...
    2025-12-25
  • 便携式显示设备
    便携式显示设备_深圳市联合极光科技有限公司_202511189577.6
    本发明涉及一种便携式显示设备， 包括壳体、短焦投影仪、收卷机构和幕布， 短焦投影仪连接于壳体， 且短焦投影仪的投射比大于0.15且小于0.4， 收卷机构连接于壳体， 幕布与收卷机构联动以被驱使在展开状态和收卷状态之间切换， 短焦投影仪用于向...
    2025-12-25
  • 投影设备及投影系统
    投影设备及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410447903.8
    本申请提供一种投影设备及投影系统， 涉及投影技术领域， 投影设备包括：壳体， 壳体内部具有容置腔和第一腔体， 容置腔和第一腔体相邻设置且相互分隔；壳体上设有与第一腔体相连通的进液口和出液口；色轮， 色轮位于容置腔中， 且位于容置腔靠近第一腔...
    2025-12-25
  • 光源系统
    光源系统_苏州佳世达光电有限公司_202410436457.0
    本发明提供光源系统， 包括准直件、第一光源、第二光源、第一折光件、第二折光件及反射件。准直件具有光轴。第一光源配置在光轴的第一侧或第二侧且用以发出第一光束， 其中第一侧与第二侧分别为光轴的相对两侧。第二光源配置在光轴的第一侧或第二侧且用以发...
    2025-12-25
  • 投影设备及投影系统
    投影设备及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410449006.0
    本申请提供一种投影设备及投影系统， 涉及投影技术领域， 投影设备包括：发光组件， 发光组件包括多个第一发光件、第二发光件以及第三发光件；第一发光件发出的激光用于形成第一光斑， 第二发光件发出的激光用于形成第二光斑；多个第一发光件和多个第二发...
    2025-12-25
  • 光学组合器及使用其的光学装置
    光学组合器及使用其的光学装置_宏达国际电子股份有限公司_202510452545.4
    一种光学装置包含影像投影机以及光学组合器。影像投影机配置以发射影像光。光学组合器设置于影像光的光路上。光学组合器包含色料元件。色料元件配置以吸收在至少一特定波长范围内的光。藉此， 可以调整通过光学组合器的光的颜色， 从而实现色彩吸收和平衡的...
    2025-12-25
  • 一体化可移动电容触摸反射式投影系统
    一体化可移动电容触摸反射式投影系统_温州宏达新材料科技有限公司_202510979848.1
    本申请涉及光学领域， 具体涉及投影设备。一体化可移动电容触摸反射式投影系统， 包括投影支架、投影幕布以及投影仪， 投影幕布固定在投影支架上， 投影仪位于投影幕布上方， 投射方向朝向前方；在投影仪前方设置有一反射镜， 反射镜的镜面朝向投影幕布...
    2025-12-25
  • 一种干式胶片制备方法
    一种干式胶片制备方法_江苏泰科医疗科技有限公司_202510908219.X
    本发明公开了一种干式胶片制备方法， 属于医用胶片技术领域。本发明用于解决现有技术中干式胶片采用染色剂变色效果差、采用的乳胶液胶粘剂成膜性差的技术问题。一种干式胶片制备方法， 包括以下步骤：PET基材涂布改性SBR乳胶液， 形成涂层；涂层上涂...
    2025-12-25
  • 光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质
    光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质_北京超弦存储器研究院_202410445669.5
    本公开涉及一种光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质。该光学临近修正方法包括：获取目标图形；基于目标图形获取目标图形对应的辅助图形引导图；根据辅助图形插入规则和辅助图形引导图， 确定辅助图形引导图内允许添加辅助图形的最大数量以及各辅...
    2025-12-25
  • 一种掩模版图优化方法、设备、存储介质以及程序产品
    一种掩模版图优化方法、设备、存储介质以及程序产品_深圳晶源信息技术有限公司_202511181429.X
    本申请实施例提供了一种掩模版图优化方法、设备、存储介质以及程序产品， 方法包括：基于可调整范围对每个待优化掩模图形进行初次调整， 将初次调整后图形中的孤立边视为优化完成， 剩余图形作为待检查图形。对待检查图形进行多轮次的掩模规则检查， 每轮...
    2025-12-25
  • 光学临近修正方法、装置、电子设备及介质
    光学临近修正方法、装置、电子设备及介质_广州增芯科技有限公司_202511220369.8
    本申请提供一种光学临近修正方法、装置、电子设备及介质， 涉及半导体技术领域。该方法包括：获取设计版图；以设计版图中任一通孔图形为目标通孔图形， 确定距离目标通孔图形最近的邻近图形；确定目标通孔图形的第一目标边和邻近图形的第二目标边；根据第一...
    2025-12-25
  • 监控晶圆边缘曝光直边去边宽幅的掩模版及其使用方法
    监控晶圆边缘曝光直边去边宽幅的掩模版及其使用方法_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202510776475.8
    本申请公开了一种用于监控晶圆边缘曝光直边去边宽幅的掩模版及方法。本申请提供的掩模版包含带标尺图案的图形层。监控方法包括：在晶圆上涂布光刻胶；使用该特殊掩模版对覆盖待形成晶圆边缘曝光直边区域的目标区域进行曝光， 形成标尺图案的潜像；对晶圆执行...
    2025-12-25
  • 用于确定掩模图案的方法、设备和存储介质
    用于确定掩模图案的方法、设备和存储介质_全芯智造技术有限公司_202511299846.4
    根据本公开的示例实施例提供了用于确定掩模图案的方法、设备和存储介质。该方法包括：将目标图案划分为多个区域；基于目标图案， 分别确定多个区域中的每个区域的掩模图案；确定多个区域之间的多个重叠区域；以及通过对在多个重叠区域中的相应掩模图案的图案...
    2025-12-25
  • 非等边矩形光罩容器
    非等边矩形光罩容器_家登精密工业股份有限公司_202510276844.7
    本发明关于一种非等边矩形光罩容器， 其包含单层盒与双层盒的非等边矩形光罩容器， 单层盒的盒体与双层盒的外盒， 两者的长度与宽度为非等边矩形光罩的长度与宽度乘以1.25至2.5。双层盒的内盒的长度与宽度为非等边矩形光罩的长度与宽度乘以1.05...
    2025-12-25
  • 掩模结构参数的优化方法、装置和计算机可读存储介质
    掩模结构参数的优化方法、装置和计算机可读存储介质_中国科学院微电子研究所_202410436246.7
    本申请提出一种掩模结构参数的优化方法、装置和计算机可读存储介质。该掩模结构参数的优化方法基于入射光遇到掩模后的传播路径， 构建与待优化的第一掩模结构参数相关联的第一衍射场分布， 根据成像系统的成像模型， 构建第一衍射场分布经成像系统后成像的...
    2025-12-25
  • 微纳米加工工艺及方法及产品及光刻机
    微纳米加工工艺及方法及产品及光刻机_李云忠_202510043465.3
    本发明公开了微纳米加工工艺及方法及产品及光刻机， 涉及光学技术领域， 主要在所需成型面的反面蚀刻出图案或线条或符号或花纹或电路图或光栅图或光路图， 又或者是用蚀刻出图案或线条或符号或花纹或电路图或光栅图或光路图的镜面的反面的反面即加工后的镜...
    2025-12-25
  • 阵列喷胶式纳米压印装置及方法
    阵列喷胶式纳米压印装置及方法_中国科学院光电技术研究所_202510122472.2
    本公开提供一种阵列喷胶式纳米压印装置及方法， 涉及微纳制造技术领域， 装置包括：衬底吸附单元， 用于吸附衬底以带动衬底移动；柔性调平单元， 用于吸附母版， 衬底吸附单元带动衬底移动以使衬底与母版对准， 并使衬底与母版接触并施加压印力；喷胶单...
    2025-12-25
  • 光敏纳米复合物、氧化硅精密成型件及其制备方法与应用
    光敏纳米复合物、氧化硅精密成型件及其制备方法与应用_香港理工大学_202410451325.5
    本申请涉及微纳米制造领域， 尤其涉及光敏纳米复合物、氧化硅精密成型件及其制备方法与应用。本申请光敏纳米复合物包括改性氧化硅颗粒和聚合物单体， 改性氧化硅颗粒包括氧化硅颗粒和改性基团， 改性基团与氧化硅颗粒结合， 聚合物单体与改性基团相溶。本...
    2025-12-25
  • 正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜
    正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜_DIC株式会社_202510354753.0
    本发明提供一种正型感光性树脂组合物、感光性膜、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜。所述正型感光性树脂组合物含有下述的成分A～成分C。成分A：酚醛清漆型酚树脂， 包含衍生自间甲酚和/或邻甲酚的酚结构单元a1、衍生自水杨醛的醛结构单元a2、且...
    2025-12-25
  • 水性环保型LDI光刻胶及其制备工艺
    水性环保型LDI光刻胶及其制备工艺_深圳市德贝尔光电材料有限公司_202511118992.2
    本发明涉及光刻胶材料技术领域， 具体涉及一种水性环保型LDI光刻胶及其制备工艺， 包括交联剂合成、明胶改性、光刻胶配制与涂布。交联剂合成时， 胱胺与甲基丙烯酸缩水甘油酯反应制得胱胺二丙烯酸酯中间体， 胱胺二丙烯酸酯中间体经与4‑(2‑氨乙氧...
    2025-12-25
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